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1. (WO2010113611) FLUORINE GAS GENERATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2010/113611 International Application No.: PCT/JP2010/054061
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 04.03.2010
IPC:
C25B 1/24 (2006.01) ,C25B 9/00 (2006.01) ,C25B 15/08 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
25
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
B
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON- METALS; APPARATUS THEREFOR
1
Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
24
of halogens or compounds thereof
C CHEMISTRY; METALLURGY
25
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
B
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON- METALS; APPARATUS THEREFOR
9
Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies
C CHEMISTRY; METALLURGY
25
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
B
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON- METALS; APPARATUS THEREFOR
15
Operating or servicing of cells
08
Supplying or removing reactants or electrolytes; Regeneration of electrolytes
Applicants:
毛利勇 MORI, Isamu [JP/JP]; JP (UsOnly)
八尾章史 YAO, Akifumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
宮崎達夫 MIYAZAKI, Tatsuo [JP/JP]; JP (UsOnly)
セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP (AllExceptUS)
Inventors:
毛利勇 MORI, Isamu; JP
八尾章史 YAO, Akifumi; JP
宮崎達夫 MIYAZAKI, Tatsuo; JP
Agent:
後藤政喜 GOTO, Masaki; 東京都千代田区霞が関三丁目3番1号尚友会館 Shoyu-Kaikan, 3-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
Priority Data:
2009-08944401.04.2009JP
Title (EN) FLUORINE GAS GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE GAZ DE FLUOR
(JA) フッ素ガス生成装置
Abstract:
(EN) Disclosed is a fluorine gas generation device provided with purification devices that remove hydrogen fluoride gas mixed in with a primary product gas that vaporizes from a molten salt and is generated at an anode (7). At least two purification devices are arranged in parallel, and are provided with: gas inflow sections into which the primary product gas, containing hydrogen fluoride gas, flows; and cooling devices that cool the gas inflow sections so that the hydrogen fluoride gas mixed in with the primary product gas solidifies while fluorine gas passes through said gas inflow sections. On the basis of detection results from an accumulation detector that detects the accumulation state of hydrogen fluoride in the gas inflow sections, a control device switches over from one purification device to the other, so that fluorine gas is directed to the purification device that had been on standby, while hydrogen fluoride is discharged from the gas inflow section of the purification device that was stopped by the switchover, and fluorine gas is provided to the gas inflow section thereof, thereby putting the stopped purification device in a standby state.
(FR) L'invention met en œuvre un dispositif de purification consistant à extraire du gaz de fluorure d'hydrogène mélangé à un gaz principal généré par une anode (7), et par évaporation à partir d'un sel fondu. Un dispositif de purification met en œuvre d'une part une partie d'écoulement entrant de gaz, disposée en alignement sur au moins deux groupes, et dont le gaz principal comprend un gaz de fluorure d'hydrogène; d'autre part un dispositif de refroidissement, refroidissant une partie d'écoulement entrant de gaz dans lequel se solidifie un gaz de fluorure d'hydrogène mélangé à un gaz principal, et tel qu'un gaz de fluor traverse une partie d'écoulement entrant de gaz. Un dispositif de commande, en fonction des résultats de détection d'un appareil de détection d'état d'accumulation, qui détecte l'état d'accumulation de fluorure d'hydrogène dans une partie d'écoulement entrant de gaz, réalise une bascule de fonctionnement d'un dispositif de purification de façon à guider un gaz de fluor vers un dispositif de purification en état de veille; puis expulse du fluorure d'hydrogène, à partir d'une partie d'écoulement entrant de gaz d'un dispositif de purification mis en arrêt par une bascule de fonctionnement. Grâce à une alimentation en gaz de fluor dans une partie d'écoulement entrant de gaz, un dispositif de purification en arrêt est mis en état de veille.
(JA) 溶融塩から気化して陽極7から生成された主生ガスに混入したフッ化水素ガスを除去する精製装置を備え、精製装置は、少なくとも2基以上並列に配置され、フッ化水素ガスを含む主生ガスが流入するガス流入部と、主生ガスに混入したフッ化水素ガスが凝固する一方、フッ素ガスはガス流入部を通過するようにガス流入部を冷却する冷却装置とを備え、制御装置は、ガス流入部でのフッ化水素の蓄積状態を検出する蓄積状態検出器の検出結果に基づいて、待機状態の精製装置へとフッ素ガスが導かれるように精製装置の運転切り換えを行い、運転切り換えにて停止した精製装置のガス流入部からフッ化水素を排出し、ガス流入部にフッ素ガスを供給することによって停止中の精製装置を待機状態とする。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)