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1. (WO2010113544) INSULATOR-INTERPOSED PLASMA PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/113544    International Application No.:    PCT/JP2010/051936
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 10.02.2010
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), H05H 1/48 (2006.01)
Applicants: Ferrotec Corporation [JP/JP]; 4-14, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIINA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIINA, Yuichi; (JP)
Agent: MIKI, Hisami; Haim-Senba 303, 3-8, Kyutaromachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410056 (JP)
Priority Data:
2009-085845 31.03.2009 JP
Title (EN) INSULATOR-INTERPOSED PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA AVEC DES ISOLANTS INTERPOSÉS
(JA) 絶縁体介装型プラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)Electrically charged droplets and neutral droplets which are mixed into plasma can be more efficiently eliminated to improve the surface processing accuracy of deposition or the like by means of high-purity plasma. A plasma processing device including a plasma generating section (A), a plasma transport tube (B), and a plasma processing section (C), wherein an insulator-interposed plasma processing device in which the plasma transport tube (B) is electrically independent of the plasma generating section (A) and the plasma processing section (C) is configured on the leading edge side and end edge side of the plasma transport tube with an insulator (IS) and an insulator (IF) interposed therebetween. The plasma transport tube (B) is divided into a plurality of small transport tubes (B01, B23) with an intermediate insulator (II1) interposed therebetween so as to induce the electric independence of each of the small transport tubes. The plasma transport tube or the plurality of small transport tubes are brought into an electric floating state, or transport-tube bias power supplies (EB01, EB23) are connected to the plasma transport tube or the small transport tubes so as to be able to set the potential of the plasma transport tube or the small transport tubes to GND, variable positive potential, or variable negative potential. In addition, the small transport tubes are consecutively installed in a bending form so as to eliminate the droplets in a geometrical structure.
(FR)Selon la présente invention, des gouttelettes chargées électriquement et des gouttelettes neutres qui sont mélangées dans le plasma, peuvent être éliminées plus efficacement pour améliorer la précision de traitement de surface du dépôt, ou analogue, au moyen d'un plasma de haute pureté. Le dispositif de traitement par plasma de la présente invention comprend une section de génération de plasma (A), un tube de transport de plasma (B) et une section de traitement par plasma (C). Ledit dispositif de traitement par plasma avec des isolants interposés, dans lequel le tube de transport de plasma (B) est électriquement indépendant de la section de génération de plasma (A) et de la section de traitement par plasma (C), est configuré côté bord d'attaque et côté bord de sortie du tube de transport de plasma avec un isolant (IS) et un isolant (IF) interposés entre ces bords. Le tube de transport de plasma (B) est divisé en une pluralité de petits tubes de transport (B01, B23) avec un isolant intermédiaire (II1) interposé entre ces derniers de sorte à induire l'indépendance électrique de chacun des petits tubes de transport. Le tube de transport de plasma ou la pluralité de petits tubes de transport sont amenés à un état de flottement électrique ou des alimentations de polarisation de tube de transport (EB01, EB23) sont raccordées au tube de transport de plasma ou aux petits tubes de transport de sorte à pouvoir déterminer le potentiel du tube de transport de plasma ou des petits tubes de transport à la masse (GND), à un potentiel positif variable ou à un potentiel négatif variable. De plus, les petits tubes de transport sont installés consécutivement sous une forme pliable de sorte à éliminer les gouttelettes dans une structure géométrique.
(JA) プラズマに混入する帯電ドロップレット及び中性ドロップレットをより効率的に除去でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図る。 プラズマ発生部Aとプラズマ輸送管Bとプラズマ処理部Cを含むプラズマ処理装置において、プラズマ輸送管の始端側と終端側に絶縁体IS及び絶縁体IFを介し、プラズマ輸送管Bをプラズマ発生部Aとプラズマ処理部Cから電気的に独立させた絶縁体介装型プラズマ処理装置を構成する。プラズマ輸送管Bを中間絶縁体II1を介して複数の小輸送管B01、B23に分割し、各小輸送管を電気的に独立させる。プラズマ輸送管又は複数の小輸送管を電気的浮動状態にし、又は輸送管用バイアス電源EB01、EB23を接続して、プラズマ輸送管又は小輸送管の電位をGND、可変正電位又は可変負電位に設定可能にする。又、小輸送管を屈曲状に連接して幾何学的構造でドロップレットを除去する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)