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1. (WO2010112171) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE WITH A DEBRIS-MITIGATED AND COOLED COLLECTOR OPTICS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2010/112171 International Application No.: PCT/EP2010/001874
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 25.03.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,B08B 5/00 (2006.01) ,B08B 17/02 (2006.01)
Applicants: ABHARI, Reza[US/CH]; CH (UsOnly)
GIOVANNINI, Andrea[CH/CH]; CH (UsOnly)
ROLLINGER, Bob[LU/CH]; CH (UsOnly)
BLEINER, Davide[IT/CH]; CH (UsOnly)
ETH ZURICH[CH/CH]; ETH transfer Raemistrasse 101 CH-8092 Zurich, CH (AllExceptUS)
Inventors: ABHARI, Reza; CH
GIOVANNINI, Andrea; CH
ROLLINGER, Bob; CH
BLEINER, Davide; CH
Priority Data:
09004867.902.04.2009EP
Title (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE WITH A DEBRIS-MITIGATED AND COOLED COLLECTOR OPTICS
(FR) SOURCE DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME AVEC OPTIQUE COLLECTRICE REFROIDIE ET PROTÉGÉE DES DÉBRIS
Abstract: front page image
(EN) The extreme ultraviolet light source comprises a production site capable of producing extreme ultraviolet radiation in a laser-produced plasma (3), and a collector optics (6) for collimating the extreme ultraviolet radiation. A pressurized influx of gas forms a gas curtain between the production site and the collector optics (6) in order to protect the collector optics (6) from debris (4) generated at the production site. The gas influx is directed in a way that it follows the surface of the collector optics (6). By thus shielding the collector optics (6) from the debris (4) its lifetime is enhanced. The shielding gas can further be used for cooling the collector optics (6).
(FR) L'invention porte sur une source de lumière ultraviolette extrême qui comprend un site de production capable de produire un rayonnement ultraviolet extrême dans un plasma produit par laser (3) et une optique collectrice (6) pour collimater le rayonnement ultraviolet extrême. Un flux entrant de gaz sous pression forme un rideau de gaz entre le site de production et l'optique collectrice (6) afin de protéger l'optique collectrice (6) vis-à-vis de débris (4) générés au niveau du site de production. Le flux d'entrée de gaz est dirigé de telle sorte qu'il suit la surface de l'optique collectrice (6). En protégeant ainsi l'optique collectrice (6) des débris (4), on améliore sa durée de vie. Le gaz protecteur peut en outre être utilisé pour refroidir l'optique collectrice (6).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)