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1. (WO2010112170) MAGNETRON COATING MODULE AND MAGNETRON COATING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/112170    International Application No.:    PCT/EP2010/001871
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 25.03.2010
IPC:
C23C 14/35 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), C23C 14/00 (2006.01)
Applicants: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c 80686 München (DE) (For All Designated States Except US).
PFLUG, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SIEMERS, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SITTINGER, Volker [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SZYSZKA, Bernd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ULRICH, Stephan [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: PFLUG, Andreas; (DE).
SIEMERS, Michael; (DE).
SITTINGER, Volker; (DE).
SZYSZKA, Bernd; (DE).
ULRICH, Stephan; (DE)
Agent: PFENNING, MEINIG & PARTNER; Theresienhöhe 13 80339 München (DE)
Priority Data:
10 2009 015 737.9 31.03.2009 DE
Title (DE) MAGNETRON-BESCHICHTUNGSMODUL SOWIE MAGNETRON-BESCHICHTUNGSVERFAHREN
(EN) MAGNETRON COATING MODULE AND MAGNETRON COATING METHOD
(FR) MODULE DE REVÊTEMENT MAGNÉTRON ET PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT MAGNÉTRON
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine neue Basistechnologie für das Magnetronsputtern von keramischen Schichten, insbesondere für optische Anwendungen. Das neue Konzept ermöglicht den Aufbau von Magnetron-Sputterquellen, welcher im Vergleich zu den bekannten Verfahren, wie dem reaktiven DC-, MF- oder RF-Magnetronsputtern bzw. dem Magnetronsputtern von keramischen Targets eine erheblich verbesserte Präzision bei der Abscheidung von keramischen Schichten mit exakt definierter Rate und Homogenität sowie mit sehr guter Reproduzierbarkeit ermöglicht.
(EN)The invention relates to a novel basic technology for the magnetron sputtering of ceramic layers, in particular for optical applications. The novel concept enables the establishment of magnetron sputter sources, which allows for a significantly improved precision upon the separation of ceramic layers having an exactly defined rate and homogeneity and a very good reproducibility in comparison to the known methods, such as the reactive DC, MF or RF magnetron sputtering or the magnetron sputtering of ceramic targets.
(FR)L'invention concerne une nouvelle technologie de base pour la pulvérisation magnétron de couches céramiques, en particulier pour des applications optiques. Le nouveau concept permet la construction de sources de pulvérisation magnétron, qui, en comparaison avec les procédés connus, comme la pulvérisation magnétron réactive DC, MF ou RF voire la pulvérisation magnétron de cibles céramiques, permet une précision considérablement améliorée lors de la déposition de couches céramiques avec un débit et une homogénéité définis avec exactitude ainsi qu'une bonne reproductibilité.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)