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1. (WO2010111972) DUAL WAFER STAGE EXCHANGING SYSTEM FOR LITHOGRAPHIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/111972    International Application No.:    PCT/CN2010/071547
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 02.04.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TSINGHUA UNIVERSITY [CN/CN]; Post Box 100084 Branch 82, Tsinghua University Patent Office, Haidian District Beijing 100084 (CN) (For All Designated States Except US).
ZHU, Yu [CN/CN]; (CN) (For US Only).
ZHANG, Ming [CN/CN]; (CN) (For US Only).
WANG, Jingsong [CN/CN]; (CN) (For US Only).
TIAN, Li [CN/CN]; (CN) (For US Only).
XU, Dengfeng [CN/CN]; (CN) (For US Only).
YIN, Wensheng [CN/CN]; (CN) (For US Only).
DUAN, Guanghong [CN/CN]; (CN) (For US Only).
HU, Jinchun [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: ZHU, Yu; (CN).
ZHANG, Ming; (CN).
WANG, Jingsong; (CN).
TIAN, Li; (CN).
XU, Dengfeng; (CN).
YIN, Wensheng; (CN).
DUAN, Guanghong; (CN).
HU, Jinchun; (CN)
Agent: BEIJING GRANDERIP LAW FIRM; Suite 519, Huapu International Plaza No.19, Chaoyang Men Wai Avenue, Chaoyang District Beijing 100020 (CN)
Priority Data:
200910131506.5 03.04.2009 CN
Title (EN) DUAL WAFER STAGE EXCHANGING SYSTEM FOR LITHOGRAPHIC DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ÉCHANGE DE DOUBLE PORTE-PLAQUETTE POUR DISPOSITIF LITHOGRAPHIQUE
(ZH) 一种光刻机硅片台双台交换系统
Abstract: front page image
(EN)A dual wafer stage exchanging system for a lithographic device is disclosed, said system comprises two wafer stages running between an exposure workstation and a pre-processing workstation, and said two wafer stages are set on a base and suspended above the upper surface of the base by air bearings. Each of the two wafer stages is passed through by a Y-direction guide rail respectively, wherein one end of said guide rail is connected with a main driving unit and another end of said guide rail is detachably coupled with one of the two X-direction auxiliary driving units with single degree of freedom, and said two wafer stages are capable of moving in Y-direction along the guide rails and moving in X-direction under the drive of the auxiliary driving units with single degree of freedom. The position exchange of said two wafer stages can be enabled by the detachment and connection of the Y-direction guide rails and the auxiliary driving units with single degree of freedom.
(FR)L'invention concerne un système d'échange de double porte-plaquette pour un dispositif lithographique, ce système comprenant deux porte-plaquettes se déplaçant entre un poste d'exposition et un poste de prétraitement, et lesdits porte-plaquettes étant placés sur une base et suspendus au-dessus de la surface supérieure de la base par des paliers à air. Chacun des deux porte-plaquettes est traversé par un rail-guide respectif orienté dans la direction Y, une extrémité dudit rail-guide étant connectée à une unité de commande principale et l'autre extrémité dudit rail-guide étant reliée de façon détachable à l'une des deux unités de commande auxiliaires à un seul degré de liberté dans la direction X, et les deux porte-plaquettes peuvent se déplacer dans la direction Y le long des rails-guides et dans la direction X lorsqu'ils sont commandés par les unités de commande auxiliaires à un seul degré de liberté. Le changement de position des deux porte-plaquettes peut être déclenché par déconnexion et connexion des rails-guides orientés dans la direction Y et des unités de commande auxiliaires à un seul degré de liberté.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)