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1. (WO2010111798) METHOD AND DEVICE FOR STRUCTURING A SOLID BODY SURFACE WITH A HARD COATING WITH A FIRST LASER WITH PULSES IN THE NANOSECOND FIELD AND A SECOND LASER WITH PULSES IN THE PICO- OR FEMTOSECOND FIELD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/111798    International Application No.:    PCT/CH2010/000074
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 18.03.2010
IPC:
B23K 26/06 (2006.01), B23K 26/40 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B21D 22/02 (2006.01), B31F 1/07 (2006.01), B42D 15/00 (2006.01), B41M 5/24 (2006.01)
Applicants: BOEGLI-GRAVURES S.A. [CH/CH]; Rue de la Gare 24-26 CH-2074 Marin (CH) (For All Designated States Except US).
BOEGLI, Charles [CH/CH]; (CH) (For US Only).
WEISSMANTEL, Steffen [DE/DE]; (DE) (For US Only).
REISSE, Günter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ENGEL, Andy [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BOETTCHER, Rene [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STEFFEN, Werner [CH/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: BOEGLI, Charles; (CH).
WEISSMANTEL, Steffen; (DE).
REISSE, Günter; (DE).
ENGEL, Andy; (DE).
BOETTCHER, Rene; (DE).
STEFFEN, Werner; (CH)
Agent: AMMANN PATENT ATTORNEYS LTD. BERNE; Schwarztorstrasse 31 CH-3001 Berne (CH)
Priority Data:
09156583.8 30.03.2009 EP
09405203.2 25.11.2009 EP
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR STRUCTURING A SOLID BODY SURFACE WITH A HARD COATING WITH A FIRST LASER WITH PULSES IN THE NANOSECOND FIELD AND A SECOND LASER WITH PULSES IN THE PICO- OR FEMTOSECOND FIELD
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE STRUCTURATION D'UNE SURFACE DE CORPS SOLIDE PAR REVÊTEMENT DUR AU MOYEN D'UN PREMIER LASER À DURÉE D'IMPULSION DE L'ORDRE DE LA NANOSECONDE ET D'UN SECOND LASER À DURÉE D'IMPULSION DE L'ORDRE DE LA PICOSECONDE OU DE LA FEMTOSECONDE
Abstract: front page image
(EN)In the method for structuring at least one area of a solid body surface (9,10) provided with a ta-C coating, by means of a first laser (1), preferably an excimer laser having pulse durations in the nanosecond range, a first structure is produced upon which a second, ripple-like structure is superposed by means of a second laser (15), having pulse durations in the picosecond or in the femtosecond range. Preferentially, the excimer laser structuring is carried out according to the mask projection technique and the picosecond or femtosecond laser (15) structuring according to the focus technique. This method allows the rational manufacture of very complex, extremely fraud-resistant authentication features and/or of esthetically attractive, optical diffraction effective colored patterns.
(FR)Selon le procédé de structuration d'une zone de la surface d'un corps solide (9, 10) présentant un revêtement ta-C au moyen d'un premier laser (1), de préférence à excimères, à durée d'impulsions de l'ordre de la nanoseconde, une première structure est produite sur laquelle est superposée une seconde structure de type ridé au moyen d'un second laser (15) à durée d'impulsion de l'ordre de la picoseconde ou de la femtoseconde. La structuration par laser à excimères est de préférence accomplie selon une technique de projection de masque et la structuration par laser à durée d'impulsions de l'ordre de la picoseconde ou femtoseconde par la technique de focalisation. Ce procédé rend possible l'obtention rationnelle de caractéristiques d'authentification très complexes et très résistantes à la fraude et/ou de motifs colorés efficaces à diffraction optique, de grande qualité esthétique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)