(EN) For coupling RF power from an RF input (40) of a plasma chamber to the interior (11) of a plasma chamber, an RF bus conductor (43, 44) is connected between the RF input and a plasma chamber electrode (20-26). In one embodiment, an RF return bus conductor (53, 54) is connected to an electrically grounded wall (14-18) of the chamber, and the RF bus conductor and the RF return bus conductor have respective surfaces that are parallel and face each other. In another embodiment, the RF bus conductor has a transverse cross section having a longest dimension oriented perpendicular to the surface of the plasma chamber electrode that is closest to the RF bus conductor.
(FR) En vue de coupler une puissance radioélectrique provenant d'une entrée RF (40) d'une chambre plasma à l'intérieur (11) d'une chambre plasma, un conducteur de bus RF (43, 44) est connecté entre l'entrée RF et une électrode de chambre plasma (20-26). Selon un mode de réalisation, un conducteur de bus retour RF (53, 54) est connecté à une paroi électriquement mise à la terre (14-18) de la chambre, et le conducteur de bus RF ainsi que le conducteur de bus retour RF ont des surfaces respectives qui sont parallèles et qui se font face. Selon un autre mode de réalisation, le conducteur de bus RF est pourvu d'une coupe transversale ayant une dimension plus longue orientée de façon perpendiculaire à la surface de l'électrode de chambre plasma qui est la plus proche du conducteur de bus RF.