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1. WO2010086940 - DEFECT INSPECTING APPARATUS AND DEFECT INSPECTING METHOD

Publication Number WO/2010/086940
Publication Date 05.08.2010
International Application No. PCT/JP2009/006767
International Filing Date 10.12.2009
IPC
G01N 21/956 2006.01
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws, defects or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
CPC
G01N 2021/95615
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
95607using a comparative method
95615with stored comparision signal
G01N 21/47
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
47Scattering, i.e. diffuse reflection
G01N 21/95607
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
95607using a comparative method
Applicants
  • 株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 酒井薫 SAKAI, Kaoru [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 前田俊二 MAEDA, Shunji [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventors
  • 酒井薫 SAKAI, Kaoru
  • 前田俊二 MAEDA, Shunji
Agents
  • ポレール特許業務法人 Polaire I.P.C.
Priority Data
2009-01528227.01.2009JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) DEFECT INSPECTING APPARATUS AND DEFECT INSPECTING METHOD
(FR) APPAREIL D'INSPECTION DE DÉFAUT ET PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUT
(JA) 欠陥検査装置及びその方法
Abstract
(EN)
Provided are a defect inspecting apparatus and a defect inspecting method, by which a defect which a user desires to detect but is hidden in noise or in a defect unnecessarily detected can be detected with high sensitivity and high speed without requiring complicated threshold setting.  The defect inspecting apparatus is provided with an illuminating optical system which irradiates a subject to be inspected with light under predetermined optical conditions, and a detection optical system which detects scattered light from the subject to be inspected under predetermined conditions and acquires image data.  The defect inspecting apparatus is further provided with an image processing section, which has: a feature calculating section, which calculates a feature based on the inputted design data of the subject to be inspected, and calculates a feature quantity based on a plurality of pieces of image data, which are acquired by the detection optical system and have different optical conditions or image data acquisition conditions; a defect candidate detecting section which integrates the feature obtained from the calculated design data and the feature quantity obtained from the plurality of pieces of image data and detects  defect candidates; and a defect extracting section which extracts a highly critical defect from the detected defect candidates, based on the feature of the design data calculated by the feature calculating section.
(FR)
L'invention porte sur un appareil d'inspection de défaut et sur un procédé d'inspection de défaut, par lesquels un défaut qu'un utilisateur souhaite détecter, mais qui est caché dans un bruit ou dans un défaut non nécessairement détecté, peut être détecté avec une sensibilité élevée et une vitesse élevée sans nécessiter de réglage compliqué de seuil. L'appareil d'inspection de défaut comporte un système optique d'éclairage qui irradie un sujet devant être inspecté par une lumière dans des conditions optiques prédéterminées, et un système optique de détection qui détecte une lumière diffusée provenant du sujet devant être inspecté dans des conditions prédéterminées et acquiert des données d'image. L'appareil d'inspection de défaut comporte en outre une section de traitement d'image, qui a : une section de calcul de caractéristique, qui calcule une caractéristique sur la base des données de mise au point mises en entrée du sujet devant être inspecté, et calcule une quantité de caractéristique sur la base d'une pluralité d'éléments de données d'image, qui sont acquises par le système optique de détection et ont différentes conditions optiques ou conditions d'acquisition de données d'image ; une section de détection de défaut candidat qui intègre la caractéristique obtenue à partir des données de mise au point calculées et de la quantité de caractéristique obtenue à partir de la pluralité d'éléments de données d'image, et détecte des défauts candidats ; et une section d'extraction de défaut qui extrait un défaut hautement critique à partir des défauts candidats détectés, sur la base de la caractéristique des données de mise au point calculées par la section de calcul de caractéristique.
(JA)
 本発明は、煩雑なしきい値設定を行うことなく、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出することができる欠陥検査装置及びその方法に関するもので、被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、さらに、入力される被検査対象物の設計データから特徴を算出し、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから特徴量を算出する特徴算出部と、該算出された設計データからの特徴と複数の画像データからの特徴量とを統合処理して欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、該検出された欠陥候補から前記特徴算出部で算出される設計データの特徴を基に致命性の高い欠陥を抽出する欠陥抽出部とを有する画像処理部を備えたことを特徴とする。
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau