(EN) Compositions characterized by the presence of an aqueous base-soluble polymer having aromatic moieties and aliphatic alcohol moieties have been found which are especially useful as developable bottom antireflective coatings in 193nm lithographic processes. The compositions enable improved lithographic processes which are especially useful in the context of subsequent ion implantation or other similar processes where avoidance of aggressive antireflective coating removal techniques is desired.
(FR) L'invention porte sur des compositions, caractérisées par la présence d'un polymère soluble dans une base aqueuse ayant des fractions aromatiques et des fractions d'alcool aliphatiques, qui ont été trouvées particulièrement utiles en tant que revêtements antireflets inférieurs, développables, dans des processus lithographiques à 193 nm. Les compositions permettent des processus lithographiques améliorés qui sont particulièrement utiles dans le contexte d'une implantation ionique ultérieure ou dans un autre processus similaire où l'on souhaite éviter les techniques d'élimination de revêtement antireflet agressives.