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1. (WO2010085351) ION BEAM ANGLE CALIBRATION AND EMITTANCE MEASUREMENT SYSTEM FOR RIBBON BEAMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2010/085351 International Application No.: PCT/US2010/000169
Publication Date: 29.07.2010 International Filing Date: 22.01.2010
IPC:
H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/317 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
244
Detectors; Associated components or circuits therefor
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30
Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317
for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. ion implantation
Applicants:
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; Attn: ROBI TAILLE, Denis, A. 108 Cherry Hill Drive Beverly, Massachusetts 01915, US (AllExceptUS)
FARLEY, Marvin [US/US]; US (UsOnly)
POLNER, Donald [US/US]; US (UsOnly)
RYDING, Geoffrey [US/US]; US (UsOnly)
SMICK, Theodore [US/US]; US (UsOnly)
SAKASE, Takao [US/US]; US (UsOnly)
HORNER, Ronald [GB/US]; US (UsOnly)
EISNER, Edward [US/US]; US (UsOnly)
EIDE, Paul [US/US]; US (UsOnly)
FREER, Brian [US/US]; US (UsOnly)
LAMBERT, Mark [US/US]; US (UsOnly)
BECKEL, Donovan [US/US]; US (UsOnly)
Inventors:
FARLEY, Marvin; US
POLNER, Donald; US
RYDING, Geoffrey; US
SMICK, Theodore; US
SAKASE, Takao; US
HORNER, Ronald; US
EISNER, Edward; US
EIDE, Paul; US
FREER, Brian; US
LAMBERT, Mark; US
BECKEL, Donovan; US
Priority Data:
12/357,68822.01.2009US
Title (EN) ION BEAM ANGLE CALIBRATION AND EMITTANCE MEASUREMENT SYSTEM FOR RIBBON BEAMS
(FR) SYSTÈME D'ÉTALONNAGE D'ANGLE DE FAISCEAU D'ION ET DE MESURE D'ÉMITTANCE POUR FAISCEAUX EN RUBAN
Abstract:
(EN) An ion beam angle calibration and emittance measurement system (200), comprising a plate comprising an elongated slit (204) therein, wherein the elongated slit positioned at a rotation center of the plate and configured to allow a first beam portion (213) to pass therethrough. A beam current detector (202) located downstream of the plate, wherein the beam current detector comprises a slit (208) therein configured to permit a second beam portion (215) of the first beam portion to pass therethrough, wherein the beam current detector is configured to measure a first beam current associated with the first beam portion. A beam angle detector (206) is located downstream of the beam current detector and configured to detect a second beam current associated with the second beam portion. The plate, the current beam detector and the beam angle detector are configured to collectively rotate about the rotation center of the plate.
(FR) L'invention porte sur un système d'étalonnage d'angle de faisceau d'ion et de mesure d'émittance (200), comprenant une plaque comprenant une fente allongée (204) en son sein, la fente allongée étant positionnée au niveau d'un centre de rotation de la plaque et configurée pour permettre à une première partie de faisceau (213) de passer à travers elle. Un détecteur de courant de faisceau (202) est placé en aval de la plaque, le détecteur de courant de faisceau comprenant une fente (208) en son sein configurée pour permettre à une seconde partie de faisceau (215) de la première partie de faisceau de passer à travers elle, le détecteur de courant de faisceau étant configuré pour mesurer un premier courant de faisceau associé à la première partie de faisceau. Un détecteur d'angle de faisceau (206) est placé en aval du détecteur de courant de faisceau et configuré pour détecter un second courant de faisceau associé à la seconde partie de faisceau. La plaque, le détecteur de courant de faisceau et le détecteur d'angle de faisceau sont configurés pour tourner collectivement autour du centre de rotation de la plaque.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
EP2389679JP2012516020CN102292791KR1020110119728