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1. (WO2010084020) METHOD AND ASSEMBLY FOR GENERATING AN ELECTRON BEAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2010/084020 International Application No.: PCT/EP2010/000398
Publication Date: 29.07.2010 International Filing Date: 22.01.2010
IPC:
H01J 35/06 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/075 (2006.01) ,H01J 37/24 (2006.01) ,H05G 1/00 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
35
X-ray tubes
02
Details
04
Electrodes
06
Cathodes
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06
Electron sources; Electron guns
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06
Electron sources; Electron guns
075
Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
24
Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
G
X-RAY TECHNIQUE
1
X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
Applicants:
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c 80686 München, DE (AllExceptUS)
WÜPPEN, Jochen [DE/DE]; DE (UsOnly)
RUSSBÜLDT, Peter [DE/DE]; DE (UsOnly)
HOFFMANN, Dieter [DE/DE]; DE (UsOnly)
MANS, Torsten [DE/DE]; DE (UsOnly)
STROTKAMP, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
WESTER, Rolf [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventors:
WÜPPEN, Jochen; DE
RUSSBÜLDT, Peter; DE
HOFFMANN, Dieter; DE
MANS, Torsten; DE
STROTKAMP, Michael; DE
WESTER, Rolf; DE
Agent:
GAGEL, Roland; Landsbergerstrasse 480a 81241 München, DE
Priority Data:
10 2009 005 620.322.01.2009DE
Title (DE) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR ERZEUGUNG EINES ELEKTRONENSTRAHLS
(EN) METHOD AND ASSEMBLY FOR GENERATING AN ELECTRON BEAM
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abstract:
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines Elektronenstrahls mit einer Anordnung, die mindestens eine Kathode (1), ein elektrisch leitfähiges Gitter (2) und eine Anode (3) umfasst, sowie eine zugehörige Anordnung. In einem an die Kathode (1) und das Gitter (2) angrenzenden Bereich wird ein Plasma (6) erzeugt, aus dem über das Gitter (2) Elektronen (7) ausgekoppelt und in Richtung der Anode (3) beschleunigt werden. Das Plasma (6) wird beim vorgeschlagenen Verfahren durch Fokussieren von Laserpulsen auf eine Oberfläche der Kathode (1) erzeugt. Das Verfahren und die Anordnung lassen sich dadurch problemlos auch im Hochvakuum oder Ultrahochvakuum einsetzen und ermöglichen die Erzeugung sowohl von sub-μs-Pulsen als auch einen DC-Betrieb.
(EN) The present invention relates to a method for generating an electron beam, having an assembly comprising at least one cathode (1), an electrically conductive grating (2) and an anode (3) and further a related assembly. A plasma (6), from which electrons (7) are decoupled by way of the grating (2) and accelerated in the direction of the anode (3), is generated in a region bordering the cathode (1) and the grating (2). The plasma (6) is generated in the proposed method by focusing laser pulses on a surface of the cathode (1). The method and the assembly can be used without difficulty in a high vacuum or ultra-high vacuum and enable the generation of both sub-μs pulses and a DC mode.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production d'un faisceau d'électrons à l'aide d'un système comprenant au moins une cathode (1), une grille électriquement conductrice (2) et une anode (3), ainsi qu'un système correspondant. Dans une zone adjacente à la cathode (1) et à la grille (2) est produit un plasma (6) à partir duquel, grâce à la grille (2), des électrons (7) sont extraits et propulsés en direction de l'anode (3). Selon ledit procédé, le plasma (6) est produit par la focalisation d'impulsions laser à la surface de la cathode (1). Le procédé et le système selon l'invention peuvent ainsi être utilisés sans difficulté dans le vide poussé ou dans l'ultravide, ce qui permet aussi bien la production d'impulsions inférieures à la µs que le fonctionnement en courant continu.
front page image
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)