Search International and National Patent Collections
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persists, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2010083569) RAFT POLYMERISATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2010/083569 International Application No.: PCT/AU2010/000065
Publication Date: 29.07.2010 International Filing Date: 22.01.2010
IPC:
C08F 2/38 (2006.01) ,C07C 329/12 (2006.01) ,C07C 333/00 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
F
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
2
Processes of polymerisation
38
Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
C
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
329
Thiocarbonic acids; Halides, esters or anhydrides thereof
12
Dithiocarbonic acids; Derivatives thereof
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
C
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
333
Derivatives of thiocarbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
Applicants:
COMMONWEALTH SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH ORGANISATION [AU/AU]; Limestone Avenue Campbell , Australian Capital Territory 2612, AU (AllExceptUS)
RIZZARDO, Ezio [AU/AU]; AU (UsOnly)
CHIEFARI, John [AU/AU]; AU (UsOnly)
BENAGLIA, Massimo [IT/IT]; IT (UsOnly)
THANG, San [AU/AU]; AU (UsOnly)
MOAD, Graeme [AU/AU]; AU (UsOnly)
Inventors:
RIZZARDO, Ezio; AU
CHIEFARI, John; AU
BENAGLIA, Massimo; IT
THANG, San; AU
MOAD, Graeme; AU
Agent:
TOZER, Ramon, D.; DAVIES COLLISON CAVE 1 Nicholson Street Melbourne , Victoria 3000, AU
Priority Data:
200990027123.01.2009AU
Title (EN) RAFT POLYMERISATION
(FR) POLYMÉRISATION RAFT
Abstract:
(EN) A method of preparing polymer, the method comprising polymerising one or more ethylenically unsaturated monomers of formula (I) [Insert formula (I)] where U is selected from H, C1-C4 alkyl or halogen; V is halogen or of the form O-G where G is selected from -C(O)R1 and -R1, or V is of the form NGGa where G is as defined above and Ga is selected from H and R1, G and Ga form together with N a heterocyclic ring, or V is of the form CH2Gb where Gb is selected from H, R1, OH, OR1, NR12, PR12, P(O)R12, P(OR1)2, SR1, SOR1, and SO2R1; and where the or each R1 is independently selected from optionally substituted alkyl, optionally substituted alkenyl, optionally substituted alkynyl, optionally substituted aryl, optionally substituted heteroaryl, optionally substituted carbocyclyl, optionally substituted heterocyclyl, optionally substituted arylalkyl, optionally substituted heteroarylalkyl, optionally substituted alkylaryl, optionally substituted alkylheteroaryl, and an optionally substituted polymer chain, under the control of a RAFT agent of formula (II) or (III), where Y is a Lewis base moiety and Y* is an n-valent Lewis base moiety; X is O or NR1, R1 is as defined above or forms together with Y or Y* and N a heterocyclic ring; m is an integer ≥1; n is an integer ≥2; and where R* is a m-valent radical leaving group that affords R* which initiates free radical polymerisation of the one or more ethylenically unsaturated monomers of formula (I), and R is a free radical leaving group that affords R* which initiates free radical polymerisation of the one or more ethylenically unsaturated monomers of formula (I).
(FR) L'invention porte sur un procédé de préparation d'un polymère, le procédé comportant la polymérisation d'un ou de plusieurs monomères insaturés de façon éthylénique de la formule (I) dans laquelle U est choisi parmi H, un alkyle en C1-C4 ou un halogène; V représente un halogène ou est sous la forme O-G où G est choisi parmi -C(O)R1 et -R1, ou V est sous la forme NGGa où G est tel que défini ci-dessus et Ga est choisi parmi H et R1, G et Ga forment conjointement avec N un noyau hétérocyclique, ou V est sous la forme CH2Gb où Gb est choisi parmi H, R1, OH, OR1, NR12, PR12, P(O)R12, P(OR1)2, SR1, SOR1 et SO2R1; et où R1 ou chaque R1 est indépendamment choisi parmi un alkyle facultativement substitué, un alcényle facultativement substitué, un alcynyle facultativement substitué, un aryle facultativement substitué, un hétéroaryle facultativement substitué, un carbocyclyle facultativement substitué, un hétérocyclyle facultativement substitué, un arylalkyle facultativement substitué, un hétéroarylalkyle facultativement substitué, un alkylaryle facultativement substitué, un alkylhétéroaryle facultativement substitué et une chaîne de polymère facultativement substituée, sous le contrôle d'un agent de RAFT de la formule (II) ou (III), où Y est une fraction base de Lewis et Y* est une fraction base de Lewis de valence n; X représente O ou NR1, R1 est tel que défini ci-dessus ou forme conjointement avec Y ou Y* et N un noyau hétérocyclique; m représente un entier ≥ 1; n représente un entier ≥ 2, et où R* est un groupe partant radicalaire de valence m qui fournit R* qui amorce la polymérisation radicalaire du ou des monomères insaturés de façon éthylénique de la formule (I) et R est un groupe partant radical libre qui fournit R* qui amorce la polymérisation radicalaire du ou des monomères insaturés de façon éthylénique de la formule (I).
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
EP2389395JP2012515809US20120004381CN102361889CA2750485KR1020110118686
JP2015221899NZ594255AU2010206500AU2014262207