Search International and National Patent Collections
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persists, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2010081276) METAL OPTICAL GRAYSCALE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2010/081276 International Application No.: PCT/CN2009/001175
Publication Date: 22.07.2010 International Filing Date: 23.10.2009
IPC:
G03F 1/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
1
Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g. masks, photo-masks or reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Applicants:
国家纳米科学中心 NATIONAL CENTER FOR NANOSCIENCE AND TECHNOLOGY, CHINA [CN/CN]; 中国北京市 海淀区中关村北一条11号 No. 11 Beiyitiao, Zhongguancun, Haidian District Beijing 100190, CN (AllExceptUS)
郭传飞 GUO, Chuanfei [CN/CN]; CN (UsOnly)
刘前 LIU, Qian [CN/CN]; CN (UsOnly)
曹四海 CAO, Sihai [CN/CN]; CN (UsOnly)
王永胜 WANG, Yongsheng [CN/CN]; CN (UsOnly)
Inventors:
郭传飞 GUO, Chuanfei; CN
刘前 LIU, Qian; CN
曹四海 CAO, Sihai; CN
王永胜 WANG, Yongsheng; CN
Agent:
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 PANAWELL & PARTNERS, LLC; 中国北京市 朝阳区朝阳门外大街16号中国人寿大厦10层1002-1005 1002-1005, China Life Tower 16 Chao Yang Men Wai Street, Chaoyang District Beijing 100020, CN
Priority Data:
200910076941.214.01.2009CN
Title (EN) METAL OPTICAL GRAYSCALE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) MASQUE À ÉCHELLE DE GRIS OPTIQUE MÉTALLIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 一种金属光学灰度掩模及其制作方法
Abstract:
(EN) A metal optical grayscale mask includes a layer of metal film which is deposited on the transparent substrate, and different transparency pattern which is formed by laser writing on the surface of the metal film. The pattern is continuous, in type of array or random pattern. The grayscale is within 3.0-0.05D. The thickness of the metal film is 5-100 nm. A manufacturing method of the metal optical grayscale mask includes that the selected transparent substrate is rinsed by the general semiconductor rinse process, the metal film is deposited on the transparent substrate then different transparency pattern is formed by laser writing on the surface of the metal film. The pattern is continuous, in type of array or the random pattern. The grayscale mask is low in price, antistatic electricity performance is good, the resolution can surpass optical diffraction limit. The manufacturing method is simple. There is a wide band application for micro-optical components and large-scale production of micro-electro-mechanical systems.
(FR) L'invention porte sur un masque à échelle de gris optique métallique qui comprend une couche de film métallique qui est déposée sur le substrat transparent, et un motif de transparence différent qui est formé par écriture laser sur la surface du film métallique. Le motif est continu, de type motif en réseau ou aléatoire. L'échelle de grille se situe dans la plage de 3,0 à 0,05D. L'épaisseur du film métallique est de 5 à 100 nm. Un procédé de fabrication du masque à échelle de grille optique métallique comprend le rinçage du substrat transparent sélectionné par un traitement de rinçage de semi-conducteur général, le dépôt du film métallique sur le substrat transparent, puis la formation d'un motif de transparence différent par écriture laser sur la surface du film métallique. Le motif est continu, de type motif en réseau ou aléatoire. Le masque à échelle de gris est peu coûteux, l'efficacité de l'électricité antistatique est bonne, la résolution peut surpasser la limite de diffraction optique. Le procédé de fabrication est simple. Il existe une large bande d'application pour des composants micro-optiques et une production à grande échelle de systèmes micro-électromécaniques.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)
Also published as:
EP2378360CN101981500