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1. (WO2010076894) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2010/076894 International Application No.: PCT/JP2009/071914
Publication Date: 08.07.2010 International Filing Date: 25.12.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
SATO Shinji [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
SATO Shinji; JP
Agent:
SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620, JP
Priority Data:
12/644,70322.12.2009US
61/193,83329.12.2008US
61/193,83429.12.2008US
61/193,83529.12.2008US
61/193,83629.12.2008US
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abstract:
(EN) An exposure apparatus that exposes a substrate includes: an optical system (PL) that includes an emission surface (23) from which an exposure light (EL) is emitted; a first surface (41) that is disposed in at least a part of a surrounding of an optical path of the exposure light emitted from the emission surface; a second surface (42) that is disposed in at least a part of a surrounding of the first surface and at a position lower than the first surface; a space portion (80) into which a liquid (LQ) can flow via a first aperture (33) between the first surface and the second surface and which is opened to the atmosphere via a second aperture (34) different from the first aperture; and a first recovery portion (60) that recovers at least a part of the liquid flowing into the space portion. Here, the emission surface, the first surface, and the second surface are opposed to the surface of the substrate (P) in at least a part of the exposure of the substrate, and the substrate is exposed with the exposure light from the emission surface via the liquid between the emission surface and the surface of the substrate.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'exposition pour un substrat. Cet appareil comprend: un système optique (PL) qui comporte une surface d'émission (23) à partir de laquelle est émise une lumière d'exposition (LE); une première surface (41) qui est disposée dans une partie au moins de l'entourage d'une trajectoire optique de la lumière d'exposition émise à partir de la surface d'émission; une seconde surface (42) qui est disposée dans une partie au moins de l'entourage de la première surface, en une position inférieure à celle de la première surface; une partie en volume (80) dans laquelle un liquide (LQ) peut s'écouler au travers d'une première ouverture (33) entre la première surface et la seconde surface, laquelle partie en volume est par ailleurs ouverte sur l'atmosphère au travers d'une seconde ouverture (34) différente de la première ouverture; et une première partie de récupération (60) qui récupère une partie au moins du liquide s'écoulant dans la partie en volume. Ici, la surface d'émission, la première surface, et la seconde surface sont opposées à la surface du substrat (P) dans au moins une partie de l'exposition du substrat, et le substrat est exposé avec la lumière d'exposition provenant de la surface d'émission au travers du liquide entre la surface d'émission et la surface du substrat.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
JP2012514315KR1020110106908KR1020180021907