Search International and National Patent Collections
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persists, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2010074270) BLOCK COPOLYMER COMPOSITION, FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING BLOCK COPOLYMER COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2010/074270 International Application No.: PCT/JP2009/071692
Publication Date: 01.07.2010 International Filing Date: 25.12.2009
IPC:
C08L 53/02 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
L
COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
53
Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
02
of vinyl aromatic monomers and conjugated dienes
Applicants:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP (AllExceptUS)
小田 亮二 ODA, Ryouji [JP/JP]; JP (UsOnly)
大石 剛史 OOISHI, Takeshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
小田 亮二 ODA, Ryouji; JP
大石 剛史 OOISHI, Takeshi; JP
Agent:
山下 昭彦 YAMASHITA, Akihiko; 東京都中央区京橋一丁目16番10号 オークビル京橋3階 東京セントラル特許事務所内 c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM, 3rd Floor, Oak Building Kyobashi, 16-10, Kyobashi 1-chome, Chuou-ku, Tokyo 1040031, JP
Priority Data:
2008-33532926.12.2008JP
2009-08853331.03.2009JP
Title (EN) BLOCK COPOLYMER COMPOSITION, FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING BLOCK COPOLYMER COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE COPOLYMÈRE À BLOCS, FILM ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COMPOSITION DE COPOLYMÈRE À BLOCS
(JA) ブロック共重合体組成物、フィルムおよびブロック共重合体組成物の製造方法
Abstract:
(EN) A block copolymer composition comprising a block copolymer (A) represented by general formula (A) and a block copolymer (B) represented by general formula (B), wherein the weight ratio of the block copolymer (A) to the block copolymer (B) (A/B) is 36/64 to 85/15. Ar1a-Da-Ar2a    (A)    (Arb-Db)n-X    (B) [In general formulae (A) and (B), Ar1a and Arb independently represent an aromatic vinyl polymer block having a weight average molecular weight of 6000 to 15000; Ar2a represents an aromatic vinyl polymer block having a weight average molecular weight of 40000 to 400000; Da and Db independently represent a conjugated diene polymer block having a vinyl bond content of 1 to 20 mol%; X represents a residue of a coupling agent; and n represents an integer of 3 or more.]
(FR) L'invention porte sur une composition de copolymère à blocs qui comporte un copolymère à blocs (A) représenté par la formule générale (A) et un copolymère à blocs (B) représenté par la formule générale (B), le rapport en poids du copolymère à blocs (A) au copolymère à blocs (B) (A/B) étant de 36/64 à 85/15. Ar1a-Da-Ar2a (A) (Arb-Db)n-X (B) [Dans les formules (A) et (B), Ar1a et Arb représentent indépendamment un bloc de polymère vinyle aromatique ayant une masse moléculaire moyenne en poids de 6 000 à 15 000 ; Ar2a représente un bloc de polymère vinyle aromatique ayant une masse moléculaire moyenne en poids de 40 000 à 400 000 ; Da et Db représentent indépendamment un bloc de polymère de diène conjugué ayant une teneur en liaison vinyle de 1 à 20 % en moles ; X représente un reste d'un agent de couplage, et n représente un entier de 3 ou plus].
(JA)  下記の一般式(A)で表されるブロック共重合体Aと、下記の一般式(B)で表されるブロック共重合体Bとを含有してなるブロック共重合体組成物であって、ブロック共重合体Aとブロック共重合体Bとの重量比(A/B)が36/64~85/15であるブロック共重合体組成物。Ar1a-Da-Ar2a (A) (Arb-Db)n-X (B) (一般式(A)および(B)において、Ar1aおよびArbは、それぞれ、重量平均分子量が6000~15000の芳香族ビニル重合体ブロックであり、Ar2aは、重量平均分子量が40000~400000の芳香族ビニル重合体ブロックであり、DaおよびDbは、それぞれ、ビニル結合含有量が1~20モル%の共役ジエン重合体ブロックであり、Xはカップリング剤の残基であり、nは3以上の整数である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
EP2371900JPWO2010074270US20110257336CN102264832