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1. (WO2010033873) FATIGUE DAMAGE RESISTANT WIRE AND METHOD OF PRODUCTION THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/033873    International Application No.:    PCT/US2009/057586
Publication Date: 25.03.2010 International Filing Date: 18.09.2009
Chapter 2 Demand Filed:    19.07.2010    
IPC:
C22C 19/00 (2006.01), A61N 1/00 (2006.01)
Applicants: FORT WAYNE METALS RESEARCH PRODUCTS CORPORATION [US/US]; 9609 Ardmore Avenue P.O. Box 9040 Fort Wayne, IN 46899 (US) (For All Designated States Except US).
SCHAFFER, Jeremy, E. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SCHAFFER, Jeremy, E.; (US)
Agent: COX, Adam, F.; Baker & Daniels LLP 111 East Wayne Street, Suite 800 Fort Wayne, IN 46802 (US)
Priority Data:
61/179,558 19.05.2009 US
61/110,084 31.10.2008 US
61/228,677 27.07.2009 US
61/098,427 19.09.2008 US
Title (EN) FATIGUE DAMAGE RESISTANT WIRE AND METHOD OF PRODUCTION THEREOF
(FR) FIL RÉSISTANT AUX EFFORTS DE FATIGUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION CORRESPONDANT
Abstract: front page image
(EN)Fatigue damage resistant metal or metal alloy wires have a submicron-scale or nanograin microstructure that demonstrates improved fatigue damage resistance properties, and methods for manufacturing such wires. The present method may be used to form a wire having a nanograin microstructure characterized by a mean grain size that is 500 nm or less, in which the wire demonstrates improved fatigue damage resistance. Wire manufactured in accordance with the present process may show improvement in one or more other material properties, such as ultimate strength, unloading plateau strength, permanent set, ductility, and recoverable strain, for example. Wire manufactured in accordance with the present process is suitable for use in a medical device, or other high end application.
(FR)La présente invention concerne, d'une part des fils de métal ou d'alliage de métaux résistant aux efforts de fatigue et présentant une microstructure submicronique ou d'ordre du nanograin qui font preuve de qualités accrues de résistance aux efforts de fatigue, et d'autre part des procédés de fabrication de tels fils. Les procédés de l'invention conviennent à la formation d'un fil présentant une microstructure de nanograin caractérisée par un calibre particulaire moyen n'excédant pas 500 nm, conférant au fil une résistance accrue aux efforts de fatigue. Le fil fabriqué selon le procédé de l'invention est susceptible de présenter des améliorations affectant l'une au moins des propriétés de la matière que sont notamment la résistance à la rupture, la résistance au plateau de décharge, la déformation permanente, la ductilité ou la déformation récupérable. Le fil fabriqué selon le procédé de l'invention convient particulièrement à l'utilisation dans un dispositif médical ou à d'autres applications haut de gamme.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)