WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010033761) SELF-DIAGNOSTIC SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/033761    International Application No.:    PCT/US2009/057412
Publication Date: 25.03.2010 International Filing Date: 18.09.2009
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (For All Designated States Except US).
DAVIS, Matthew F. [US/US]; (US) (For US Only).
LIAN, Lei [CN/US]; (US) (For US Only).
ZHUANG, Xiaoliang [CN/US]; (US) (For US Only).
WALKER, Quentin E. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DAVIS, Matthew F.; (US).
LIAN, Lei; (US).
ZHUANG, Xiaoliang; (US).
WALKER, Quentin E.; (US)
Agent: TABOADA, Alan; Moser IP Law Group 1030 Broad Street Suite 203 Shrewsbury, NJ 07702 (US)
Priority Data:
12/233,838 19.09.2008 US
Title (EN) SELF-DIAGNOSTIC SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
(FR) EQUIPEMENT À SEMI-CONDUCTEURS D'AUTODIAGNOSTIC
Abstract: front page image
(EN)Methods and apparatus for predictive maintenance of semiconductor process equipment are provided herein. In some embodiments, a method of performing predictive maintenance on semiconductor processing equipment may include performing at least one self-diagnostic test on the semiconductor processing equipment with no substrate present in the equipment. The self-diagnostic test may include measuring one or more predictor parameters and one or more response parameters from the semiconductor process equipment. One or more expected response parameters may be calculated based upon the measured predictor parameters utilizing a predictive model. The one or more measured response parameters may be compared with the one or more expected response parameters. A determination may be made whether equipment maintenance is required based upon the comparison.
(FR)L'invention concerne des procédés et un appareil pour la maintenance prédictive d'équipement de traitement à semi-conducteurs. Dans certains modes de réalisation, un procédé pour réaliser la maintenance prédictive sur l'équipement de traitement à semi-conducteurs peut comprendre la réalisation d'au moins un test d'autodiagnostic sur l'équipement de traitement à semi-conducteurs, sans qu'un substrat ne soit présent dans l'équipement. Le test d'autodiagnostic peut comprendre la mesure d'un ou plusieurs paramètres de prédiction et d'un ou plusieurs paramètres de réponse de l'équipement de traitement à semi-conducteurs. Un ou plusieurs paramètres de réponse attendus peuvent être calculés sur la base des paramètres de prédiction mesurés en utilisant un modèle prédictif. Le ou les paramètres de réponse mesurés peuvent être comparés avec le ou les paramètres de réponse attendus. La comparaison permet de déterminer si la maintenance de l'équipement est nécessaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)