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1. (WO2010033433) GENERATION OF CONTACT MASKS FOR INKJET PRINTING ON SOLAR CELL SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/033433    International Application No.:    PCT/US2009/056701
Publication Date: 25.03.2010 International Filing Date: 11.09.2009
IPC:
G03C 1/00 (2006.01)
Applicants: SUNPOWER CORPORATION [US/US]; 3939 North First Street San Jose, California 95134 (US) (For All Designated States Except US).
COUSINS, Peter John [AU/US]; (US) (For US Only)
Inventors: COUSINS, Peter John; (US)
Agent: BENEDICTO, Patrick, D.; (US)
Priority Data:
12/234,970 22.09.2008 US
Title (EN) GENERATION OF CONTACT MASKS FOR INKJET PRINTING ON SOLAR CELL SUBSTRATES
(FR) GÉNÉRATION DE MASQUES DE CONTACT POUR UNE IMPRESSION PAR JET D'ENCRE SUR DES SUBSTRATS DE CELLULE SOLAIRE
Abstract: front page image
(EN)A contact mask for inkjet printing on a solar cell substrate (223) may be generated by creating a printing bitmap (213) of contacts to be printed on the solar cell substrate (223). The contacts may be located (214) on the solar cell substrate (223) by mapping coordinates of the printing bitmap (213) to coordinates of the solar cell substrate (223) as positioned in the inkjet printer (220). The location of the contacts on the solar cell substrate (223) may be defined relative to a location on the solar cell substrate (203), such as relative to center of mass. The contact mask may be printed by the inkjet printer (220) using the printing bitmap (213) and location information (214) of the contacts.
(FR)La présente invention porte sur un masque de contact pour une impression par jet d'encre sur un substrat de cellule solaire (223). Ledit masque de contact peut être généré par création d'une matrice de points d'impression (213) des contacts qui doivent être imprimés sur le substrat de cellule solaire (223). Les contacts peuvent être positionnés sur le substrat de cellule solaire (223) par mise en correspondance des coordonnées de la matrice de points d'impression (213) et des coordonnées du substrat de cellule solaire (223) tel qu'il est postionné dans l'imprimante à jet d'encre (220). Le positionnement des contacts sur le substrat de cellule solaire (223) peut être défini par rapport à un positionnement sur le substrat de cellule solaire (203), comme par rapport au centre de masse. Le masque de contact peut être imprimé par l'imprimante à jet d'encre (220) à l'aide de la matrice de points d'impression (213) et des informations de positionnement (214) des contacts.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)