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1. (WO2010032547) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING POLYMERIZED FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/032547    International Application No.:    PCT/JP2009/062956
Publication Date: 25.03.2010 International Filing Date: 17.07.2009
IPC:
H01L 21/312 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWANO Yumiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KASHIWAGI Yusaku [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWANO Yumiko; (JP).
KASHIWAGI Yusaku; (JP)
Agent: TAKAYAMA Hiroshi; (JP)
Priority Data:
2008-236819 16.09.2008 JP
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING POLYMERIZED FILM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM POLYMÉRISÉ
(JA) 重合膜の成膜方法および成膜装置
Abstract: front page image
(EN)A first substrate (16), on a raw material formation surface of which a certain pattern of a plurality of raw materials for forming a polymerized film is formed, and a second substrate (15) having a film formation surface on which a polymerized film is to be formed are arranged in a process chamber (2) in such a manner that the raw material formation surface and the film formation surface face each other.  Then, a vacuum atmosphere is created within the process chamber (2) and the first substrate (16) is heated to a first temperature at which the plurality of raw materials (17, 18) are evaporated so that the raw materials (17, 18) are evaporated, while heating the second substrate (15) to a second temperature at which a polymerization reaction of the plurality of raw materials is caused.  Consequently, the plurality of raw materials (17, 18) evaporated from the first substrate (16) are made to react on the film formation surface of the second substrate (15), thereby forming a certain polymerized film on the film formation surface.
(FR)Selon l'invention, un premier substrat (16), sur une surface de formation de matière première de laquelle un certain motif d'une pluralité de matières premières pour former un film polymérisé est formé, et un second substrat (15) ayant une surface de formation de film sur laquelle un film polymérisé doit être formé, sont agencés dans une chambre de traitement (2) de sorte que la surface de formation de matière première et la surface de formation de film se font face. Ensuite, une atmosphère sous-vide est créée dans la chambre de traitement (2) et le premier substrat (16) est chauffé à une première température à laquelle la pluralité de matières premières (17, 18) s'évaporent de sorte que les matières premières (17, 18) s'évaporent, tout en chauffant le second substrat (15) à une seconde température à laquelle une réaction de polymérisation de la pluralité de matières premières est provoquée. Par conséquent, la pluralité de matières premières (17, 18) évaporées du premier substrat (16) sont amenées à réagir sur la surface de formation de film du second substrat (15), pour ainsi former un certain film polymérisé sur la surface de formation de film.
(JA) 原料形成面に重合膜を形成するための複数の原料を所定パターンで形成した第1の基板(16)と、重合膜を形成すべき成膜面を有する第2の基板(15)とを、原料形成面と成膜面とが向き合うように処理容器2内に対向して設け、処理容器2内を真空雰囲気とし、第1の基板(16)を前記複数の原料(17,18)が蒸発する第1の温度に加熱して蒸発させるとともに、第2の基板(15)を複数の原料が重合反応を生ずる第2の温度に加熱し、第1の基板(16)から蒸発した複数の原料(17,18)を第2の基板(15)の成膜面で反応させ、成膜面に所定の重合膜を形成する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)