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1. (WO2010032543) SURFACE TREATMENT MASK, PROCESS FOR PRODUCING THE SURFACE TREATMENT MASK, METHOD FOR SURFACE TREATMENT, PARTICLE-CONTAINING FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE PARTICLE-CONTAINING FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/032543    International Application No.:    PCT/JP2009/062805
Publication Date: 25.03.2010 International Filing Date: 15.07.2009
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01), G02B 5/02 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (For All Designated States Except US).
OGAWA, Shotaro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ICHIKAWA, Kimio [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OGAWA, Shotaro; (JP).
ICHIKAWA, Kimio; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Jun; (JP)
Priority Data:
2008-241618 19.09.2008 JP
2008-241622 19.09.2008 JP
Title (EN) SURFACE TREATMENT MASK, PROCESS FOR PRODUCING THE SURFACE TREATMENT MASK, METHOD FOR SURFACE TREATMENT, PARTICLE-CONTAINING FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE PARTICLE-CONTAINING FILM
(FR) MASQUE DE TRAITEMENT DE SURFACE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU MASQUE DE TRAITEMENT DE SURFACE, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE, FILM CONTENANT DES PARTICULES, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU FILM CONTENANT DES PARTICULES
(JA) 表面処理用マスク及びその製造方法、表面処理方法、並びに、粒子含有フィルム及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a surface treatment mask comprising a film mask.  Also disclosed are a process for producing the surface treatment mask, a method for surface treatment, an optical device, a particle-containing film, and a process for producing the particle-containing film.  In the film mask, particles are arranged as a single layer without being superimposed on top of each other, or alternatively a group of particles containing first particles and second particles having a lower etching resistance than the first particles is contained.  The method for surface treatment comprises placing the film mask on a surface of an object to be treated and etching the surface to form concaves and convexes.  The optical device comprises a substrate which has been treated by the method for surface treatment.  The particle-containing film comprises particles arranged as a single layer without being superimposed on top of each other.
(FR)L'invention porte sur un masque de traitement de surface comprenant un masque de film. L'invention porte également sur un procédé de production du masque de traitement de surface, sur un procédé de traitement de surface, sur un dispositif optique, sur un film contenant des particules et sur un procédé de production du film contenant des particules. Dans le masque de film, des particules sont agencées sous la forme d'une seule couche sans être superposées l'une au-dessus de l'autre, ou, en variante, un groupe de particules contenant des premières particules et des secondes particules ayant une résistance à la gravure inférieure à celle des premières particules est contenu. Le procédé de traitement de surface comprend le placement du masque de film sur une surface d'un objet devant être traité et la gravure de la surface pour former des concavités et des convexités. Le dispositif optique comprend un substrat ayant été traité par le procédé de traitement de surface. Le film contenant des particules comprend des particules agencées sous la forme d'une seule couche sans être superposées l'une au-dessus de l'autre.
(JA) フィルムマスクを有する表面処理用マスク及びその製造方法を提供する。該フィルムマスクにおいては、粒子が重なり合うことなく単層配列で存在するか、または第1粒子と第1粒子よりもエッチング耐性が低い第2粒子とを有する粒子群が含まれる。また、該フィルムマスクを被処理物表面に配置し、該表面をエッチングして凹凸を形成する表面処理方法、並びに当該表面処理方法により処理された基板を持つ光学デバイスを提供する。また、粒子が重なり合うことなく単層配列して存在する粒子含有フィルム及びその製造方法を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)