WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010030529) LOW SLOPED EDGE RING FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/030529    International Application No.:    PCT/US2009/055596
Publication Date: 18.03.2010 International Filing Date: 01.09.2009
IPC:
H05H 1/34 (2006.01), H05H 1/38 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (For All Designated States Except US).
LEE, Changhun [KR/US]; (US) (For US Only).
WILLWERTH, Michael D. [US/US]; (US) (For US Only).
NGUYEN, Hoan [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LEE, Changhun; (US).
WILLWERTH, Michael D.; (US).
NGUYEN, Hoan; (US)
Agent: PATTERSON, Todd, B.; (US)
Priority Data:
12/207,695 10.09.2008 US
Title (EN) LOW SLOPED EDGE RING FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER
(FR) ANNEAU DE BORDURE À FAIBLE INCLINAISON POUR CHAMBRE DE TRAITEMENT PLASMATIQUE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of a cover ring for use in a plasma processing chamber are provided. In one embodiment, a cover ring for use in a plasma processing chamber includes a ring-shaped body fabricated from a yttrium (Y) containing material. The body includes a bottom surface having an inner locating ring and an outer locating ring. The inner locating ring extends further from the body than the outer locating ring. The body includes an inner diameter wall having a main wall and a secondary wall separated by a substantially horizontal land. The body also includes a top surface having an outer sloped top surface meeting an inner sloped surface at an apex. The inner sloped surface defines an angle with a line perpendicular to a centerline of the body less than about 70 degrees.
(FR)La présente invention concerne, dans certains modes de réalisation, un anneau de couvercle destiné à être utilisé dans une chambre de traitement plasmatique. Dans un mode de réalisation, un anneau de couvercle destiné à être utilisé dans une chambre de traitement plasmatique inclut un corps en forme d'anneau fabriqué à partir d'un matériau contenant de l'yttrium (Y). Ledit corps inclut une surface de fond pourvue d'une rondelle de centrage interne et d'une rondelle de centrage externe. Ladite rondelle de centrage interne s'étend plus loin du corps que la rondelle de centrage externe. Le corps inclut une paroi de diamètre interne présentant une paroi principale et une paroi auxiliaire séparées par un plan essentiellement horizontal. Le corps inclut également une surface supérieure pourvue d'une surface supérieure inclinée externe en contact avec une surface inclinée interne à un apex. Ladite surface inclinée interne définit un angle avec une ligne perpendiculaire à un axe central du corps inférieur à environ 70 degrés.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)