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1. (WO2010030505) CLEANING AND TESTING IONIC CLEANLINESS OF ELECTRONIC ASSEMBLIES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/030505    International Application No.:    PCT/US2009/055037
Publication Date: 18.03.2010 International Filing Date: 26.08.2009
IPC:
H05K 3/26 (2006.01)
Applicants: AUSTIN AMERICAN TECHNOLOGY CORPORATION [US/US]; 401 Industrial Boulevard P.O. Box 1489 Burnet, Texas 78611 (US) (For All Designated States Except US).
STACH, Steve [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: STACH, Steve; (US)
Agent: CHAMBERS, Scott A.; (US)
Priority Data:
61/095,906 10.09.2008 US
Title (EN) CLEANING AND TESTING IONIC CLEANLINESS OF ELECTRONIC ASSEMBLIES
(FR) NETTOYAGE ET TEST DE LA PROPRETÉ IONIQUE D’ENSEMBLES ÉLECTRONIQUES
Abstract: front page image
(EN)Systems, methods and processes for cleaning and testing electronic assemblies are described. A cleaning and testing apparatus may include a cleaning chamber, a solvent input into the cleaning chamber, a resistivity sensor within the cleaning chamber for sensing resistivity of the solvent; and a solvent output for removing the solvent from the cleaning chamber. The cleaning chamber may receive one or more electronic assemblies. A user may initiate a cleaning cycle, a testing cycle or a cleaning cycle followed by a testing cycle. The one or more electronic assemblies may be contacted with a solvent. Resistivity of the solvent after contact with the electronic assemblies may be measured and compared with an original resistivity of the solvent before contact with the electronic assemblies. The amount of ionic residues on the electronic assemblies may be determined based upon the comparing step.
(FR)La présente invention concerne des systèmes, des procédés et des traitements servant à nettoyer et à tester des ensembles électroniques. Un appareil de nettoyage et de test peut comprendre une chambre de nettoyage, une entrée de solvant dans la chambre de nettoyage, un détecteur de résistance situé dans la chambre de nettoyage et servant à détecter la résistance du solvant ; et une sortie de solvant servant à supprimer le solvant de la chambre de nettoyage. La chambre de nettoyage peut recevoir un ou plusieurs ensembles électroniques. Un utilisateur peut lancer un cycle de nettoyage, un cycle de test ou un cycle de nettoyage suivi d’un cycle de test. Le ou les ensembles électroniques peuvent entrer en contact avec un solvant. La résistance du solvant après le contact avec les ensembles électroniques peut être mesurée et comparée à la résistance d’origine du solvant avant le contact avec les ensembles électroniques. La quantité de résidus ioniques sur les ensembles électroniques peut être déterminée sur la base de l’étape de comparaison.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)