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1. (WO2010030308) APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING WEAR OF COMPONENTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/030308    International Application No.:    PCT/US2009/000971
Publication Date: 18.03.2010 International Filing Date: 17.02.2009
IPC:
G01N 3/56 (2006.01), C23C 4/18 (2006.01)
Applicants: SIEMENS ENERGY, INC. [US/US]; 4400 Alafaya Trail Orlando, Florida 32826-2399 (US) (For All Designated States Except US).
SHINDE, Sachin R. [IN/US]; (US) (For US Only).
KULKARNI, Anand A. [IN/US]; (US) (For US Only).
MITCHELL, David J. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SHINDE, Sachin R.; (US).
KULKARNI, Anand A.; (US).
MITCHELL, David J.; (US)
Agent: SWANSON, Erik C.; Siemens Corporation- Intellectual Property Dept., 170 Wood Avenue South, Iselin, New Jersey 08830 (US)
Priority Data:
12/194,876 15.09.2008 US
Title (EN) APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING WEAR OF COMPONENTS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE SUIVI DE L'USURE DE COMPOSANTS
Abstract: front page image
(EN)A structure and method for instrumenting a component for monitoring wear in a coating. The method includes depositing a first thin layer of electrically insulating material, depositing a thin electrically conductive layer over the first electrically insulating layer, depositing a second thin layer of electrically insulating material over the electrically conductive layer. An overlying thickness of the coating material is deposited over the second thin layer of electrically insulating material. The thicknesses of the insulating and conducting layers is controlled to be small enough such that the overlying coating surface exposed to mechanical wear retains a desired degree of smoothness without the necessity for a separate planarization step.
(FR)La présente invention concerne une structure et un procédé permettant d'implanter des instruments sur un composant afin de suivre l'usure d'un revêtement. Ce procédé comprend le dépôt d'une première couche mince d'un matériau électroisolant, le dépôt d'une couche mince électroconductrice sur la première couche électroiolante et le dépôt d'une seconde couche mince d'un matériau électroisolant sur la couche électroconductrice. Une épaisseur sus-jacente du matériau de revêtement est déposée sur la seconde couche mince de matériau électroisolant. L'épaisseur des couches isolantes et conductrices est déterminée de façon à être suffisamment faible pour que la surface du revêtement sus-jacent, exposée à l'usure mécanique, demeure suffisamment lisse pour éviter la nécessité d'avoir recours à une étape de planarisation distincte.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)