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1. (WO2010029965) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/029965    International Application No.:    PCT/JP2009/065819
Publication Date: 18.03.2010 International Filing Date: 10.09.2009
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 20/26 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 1-9-2, Higashi-Shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
EBATA, Takuma [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAGAWA, Hiroki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUDA, Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KASAHARA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HOSHIKO, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKASHIMA, Hiromitsu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IKEDA, Norihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKAI, Kaori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HARADA, Saki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: EBATA, Takuma; (JP).
NAKAGAWA, Hiroki; (JP).
MATSUDA, Yasuhiko; (JP).
KASAHARA, Kazuki; (JP).
HOSHIKO, Kenji; (JP).
NAKASHIMA, Hiromitsu; (JP).
IKEDA, Norihiko; (JP).
SAKAI, Kaori; (JP).
HARADA, Saki; (JP)
Agent: WATANABE, Kazuhira; (JP)
Priority Data:
2008-232552 10.09.2008 JP
2009-002730 08.01.2009 JP
2009-002797 08.01.2009 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)A radiation-sensitive resin composition comprising a polymer (A), a radiation-sensitive acid generator (B), an acid diffusion inhibitor (C) and a solvent (D), wherein the polymer (A) has a repeating unit (a-1) represented by general formula (a-1) and the acid diffusion inhibitor (C) has at least one base selected from a base (C-1) represented by general formula (C-1) and a photodegradable base (C-2). [In general formula (a-1), R1’s independently represent a hydrogen atom or the like; R represents a univalent group represented by general formula (a’); R19 represents a linear hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or the like; A represents a divalent linear hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or the like; and m and n independently represent an integer of 0 to 3 (provided that m + n = 1 to 3).  In general formula (C-1), R2 and R3 independently represent a univalent linear hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or the like, provided that two R2’s may together form a cyclic structure.]
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible aux rayonnements comprenant un polymère (A), un générateur d’acide sensible aux rayonnements (B), un inhibiteur de diffusion d’acide (C) et un solvant (D), où le polymère (A) a un motif de répétition (a-1) représenté par la formule générale (a-1) et l’inhibiteur de diffusion d’acide (C) a au moins une base choisie parmi une base (C-1) représentée par la formule générale (C-1) et une base photodégradable (C-2). [Dans la formule générale (a-1), les R1 représentent indépendamment un atome d’hydrogène ou similaire ; R représente un groupe monovalent représenté par la formule générale (a’) ; R19 représente un groupe hydrocarboné linéaire ayant de 1 à 5 atomes de carbone, ou similaire ; A représente un groupe hydrocarboné linéaire divalent ayant de 1 à 30 atomes de carbone, ou similaire ; et m et n représentent indépendamment un entier de 0 à 3 (à condition que m + n = 1 à 3). Dans la formule générale (C-1), R2 et R3 représentent indépendamment un groupe hydrocarboné linéaire monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou similaire, à condition que deux R2 puissent former conjointement une structure cyclique.]
(JA) 重合体(A)と、感放射線性の酸発生剤(B)と、酸拡散抑制剤(C)と、溶剤(D)とを含有し、前記重合体(A)が、下記一般式(a-1)で示される繰り返し単位(a-1)を有する重合体であり、前記酸拡散抑制剤(C)が、下記一般式(C-1)で示される塩基(C-1)及び光分解性塩基(C-2)のうちの少なくとも一種の塩基を含有する感放射線性樹脂組成物。 〔一般式(a-1)中、Rは相互に独立して、水素原子等を示し、Rは一般式(a’)で示される1価の基であり、R19は炭素数1~5の鎖状炭化水素基等を示し、Aは炭素数が1~30である2価の鎖状炭化水素基等を示し、m及びnは0~3の整数(但し、m+n=1~3)を示す。一般式(C-1)中、R,Rは相互に独立して、炭素数が1~20である1価の鎖状炭化水素基等を示す。2つのRが結合されて、環構造が形成されていてもよい。〕
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)