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1. (WO2010029948) PHOTOACID GENERATOR MATERIAL, PHOTOLITHOGRAPHY MATERIAL, AND PATTERN FILM MANUFACTURING METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/029948    International Application No.:    PCT/JP2009/065761
Publication Date: 18.03.2010 International Filing Date: 09.09.2009
IPC:
C09K 3/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), C07C 309/73 (2006.01)
Applicants: National University Corporation Chiba University [JP/JP]; 1-33, Yayoi-cho, Inage-ku, Chiba-shi, Chiba 2638522 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHARA Shigeru [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAHARA Shigeru; (JP)
Agent: TAKAHASHI, Masayoshi; 1-4-3-302, Chiharadai-nishi Ichihara-shi, Chiba 2900143 (JP)
Priority Data:
2008-231462 09.09.2008 JP
Title (EN) PHOTOACID GENERATOR MATERIAL, PHOTOLITHOGRAPHY MATERIAL, AND PATTERN FILM MANUFACTURING METHOD USING SAME
(FR) MATÉRIAU GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, MATÉRIAU PHOTOLITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE CRÉATION D'UN FILM À MOTIFS UTILISANT CEUX-CI
(JA) 光酸発生剤材料、フォトリソグラフィー材料及びこれを用いたパターン膜の製造方法。
Abstract: front page image
(EN)Provided are a photoacid generator with suitably low light absorption and high photoacid generating efficiency, a photoacid generator material and a photolithography material using the same, and a pattern film manufacturing method using the same. Disclosed is a photoacid generator material that includes an oxime-based photoacid generator having an alicyclic structure. In this case, it is preferable that the oxime-based photoacid generator have an adamantane skeleton, and more specifically, the generator is a compound represented by the formula. (1)
(FR)L’invention concerne un générateur de photoacide présentant: une faible absorption de la lumière appropriée et une efficacité de génération de photoacide élevée; un matériau générateur de photoacide et un matériau photolithographique utilisant celui-ci; et un procédé de création d'un film à motifs utilisant ceux-ci. L’invention concerne un matériau générateur de photoacide qui comprend un générateur de photoacide à base d'oxime de structure alicyclique. Dans ce cas, il est préférable que le générateur de photoacide à base d'oxime possède un squelette adamantane, et plus particulièrement, qu'il soit un composé de formule (I).
(JA)【課題】光吸収が適度に小さく光酸発生効率が高い光酸発生剤、これを用いた光酸発生材料及びフォトリソグラフィー材料、及びこれを用いたパターン膜の製造方法を提供すること。 【解決手段】脂環構造を有するオキシム系光酸発生剤を含む光酸発生材料とする。この場合において、オキシム系光酸発生剤は、アダマンタン骨格を有することが好ましく、より具体的には下記式で示される化合物であることが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)