WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010029947) CONTRAST MEDIUM COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/029947    International Application No.:    PCT/JP2009/065760
Publication Date: 18.03.2010 International Filing Date: 09.09.2009
Chapter 2 Demand Filed:    15.04.2010    
IPC:
A61K 47/42 (2006.01), A61K 47/34 (2006.01), A61K 47/36 (2006.01), A61K 47/48 (2006.01), A61K 49/00 (2006.01), A61K 49/04 (2006.01)
Applicants: KYOTO UNIVERSITY [JP/JP]; 36-1, Yoshida-honmachi, Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6068501 (JP) (For All Designated States Except US).
MAKINO, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KIMURA, Shunsaku [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAJI, Hideo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KIMURA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HARADA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MAKINO, Akira; (JP).
KIMURA, Shunsaku; (JP).
SAJI, Hideo; (JP).
KIMURA, Hiroyuki; (JP).
HARADA, Hiroshi; (JP)
Agent: Saegusa & Partners; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Priority Data:
2008-231504 09.09.2008 JP
Title (EN) CONTRAST MEDIUM COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION DE PRODUIT DE CONTRASTE ET PROCÉDÉ POUR PRODUIRE CELUI-CI
(JA) 造影剤組成物及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a contrast medium or a contrast medium composition which is highly sensitive and enables the reduction in the amount of a contrast medium to be administered.  Also disclosed is a process for producing the contrast medium or the contrast medium composition. Specifically disclosed is a process for producing a contrast medium composition, which is characterized by comprising the following steps (A) to (C): (A) adjusting the pH value of an acidic solution having apoferritin dissolved therein and having a pH value of 1.5 to 3.0 to 3.5 to 5.0; (B) adding an X-ray contrast medium or an MRI contrast medium to the treatment solution produced in the step (A); and (C) adjusting the pH value of the treatment solution produced in the step (B) to 6.0 to 8.5.  The contrast medium composition produced by the process has such a structure that a molecule of a contrast medium is included in apoferritin, wherein the contrast medium is highly concentrated in apoferritin.
(FR)La présente invention concerne un produit de contraste ou une composition de produit de contraste qui est très sensible et permet la réduction de la quantité d’un produit de contraste à administrer. La présente invention concerne en outre un procédé pour produire le produit de contraste ou la composition de produit de contraste. La présente invention concerne spécifiquement un procédé pour produire une composition de produit de contraste, qui est caractérisé en ce qu’il comprend les étapes (A) à (C) suivantes : (A) ajustement de la valeur de pH d’une solution acide contenant de l’apoferritine dissoute dans celui-ci et ayant une valeur de pH de 1,5 à 3,0 à 3,5 à 5,0 ; (B) ajout d’un produit de contraste radiographique ou un produit de contraste IRM à la solution de traitement produite dans l’étape (A) ; et (C) ajustement de la valeur de pH de la solution de traitement produite dans l’étape (B) à 6,0 à 8,5. La composition de produit de contraste produite par le procédé a une structure telle qu’une molécule d’un produit de contraste soit incluse dans l’apoferritine, où le produit de contraste est très concentré dans l’apoferritine.
(JA)本発明は、高感度で造影剤の投与量を減らすことが可能な造影剤又は造影剤組成物及びその製造方法を提供することを課題とする。 (A):アポフェリチンが溶解したpH1.5~3.0の酸性溶液を、pH3.5~5.0に調整する工程、(B):(A)工程で得た処理液に、X線造影剤又はMRI用造影剤を添加する工程、(C):(B)工程で得た処理液を、pH6.0~8.5に調整する工程、を含むことを特徴とする、造影剤組成物の製造方法をここに提供する。当該製造方法で得られる造影剤組成物は、造影剤の分子がアポフェリチンに内包された構造を有し、アポフェリチン内に造影剤が高濃縮されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)