WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010027950) METHODS AND SOLUTIONS FOR PREVENTING THE FORMATION OF METAL PARTICULATE DEFECT MATTER UPON A SUBSTRATE AFTER A PLATING PROCESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/027950    International Application No.:    PCT/US2009/055572
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 01.09.2009
IPC:
C23C 18/16 (2006.01), C23C 18/18 (2006.01), C23C 18/54 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, California 94538 (US) (For All Designated States Except US).
LI, Shijian [US/US]; (US) (For US Only).
KOLICS, Artur, K. [HU/US]; (US) (For US Only).
ARUNAGIRI, Tiruchirapalli, N. [IN/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LI, Shijian; (US).
KOLICS, Artur, K.; (US).
ARUNAGIRI, Tiruchirapalli, N.; (US)
Agent: LETTANG, Mollie, E.; Daffer McDaniel, LLP P.O. Box 684908 Austin, TX 78768-4908 (US)
Priority Data:
12/206,509 08.09.2008 US
Title (EN) METHODS AND SOLUTIONS FOR PREVENTING THE FORMATION OF METAL PARTICULATE DEFECT MATTER UPON A SUBSTRATE AFTER A PLATING PROCESS
(FR) PROCÉDÉS ET SOLUTIONS POUR EMPÊCHER LA FORMATION DE MATIÈRE DE DÉFAUT DE PARTICULES MÉTALLIQUES SUR UN SUBSTRAT APRÈS UN PROCÉDÉ DE PLACAGE
Abstract: front page image
(EN)Methods and solutions for preventing the formation of metal particulate defect matter upon a substrate after plating processes are provided. In particular, solutions are provided which are free of oxidizing agents and include a non-metal pH adjusting agent in sufficient concentration such that the solution has a pH between approximately 7.5 and approximately 12.0. In some cases, a solution may include a chelating agent. In addition or alternatively, a solution may include at least two different types of complexing agents each offering a single point of attachment for binding metal ions via respectively different functional groups. In any case, at least one of the complexing agents or the chelating agent includes a non-amine or non-imine functional group. An embodiment of a method for processing a substrate includes plating a metal layer upon the substrate and subsequently exposing the substrate to a solution comprising the aforementioned make-up.
(FR)L'invention porte sur des procédés et des solutions pour empêcher la formation de matière de défaut de particules métalliques sur un substrat après des procédés de placage. En particulier, l'invention porte sur des solutions qui sont exemptes d'agents oxydants et contiennent un correcteur d’acidité non métallique dans une concentration suffisante de manière à ce que le pH de la solution soit compris entre approximativement 7,5 et approximativement 12,0. Dans certains cas, une solution peut contenir un agent chélatant. De plus ou en variante, une solution peut contenir au moins deux types différents d'agents complexants offrant chacun un unique point de fixation pour la liaison d’ions métalliques par l'intermédiaire de groupes fonctionnels respectivement différents. Dans n'importe quel cas, au moins l'un parmi les agents complexants ou l'agent chélatant comporte un groupe fonctionnel non amine ou non imine. Un mode de réalisation d'un procédé pour traiter un substrat comprend le placage d'une couche de métal sur le substrat et l'exposition ultérieure du substrat à une solution contenant la préparation susmentionnée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)