WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010027292) SUBSTRATE CARRIER FOR MOLECULAR-BEAM EPITAXY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/027292    International Application No.:    PCT/RU2008/000797
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 19.12.2008
IPC:
C30B 23/08 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01)
Applicants: "NAUCHNOE I TEKHNOLOGICHESKOE OBORUDOVANIE" LIMITED [RU/RU]; pr. Engelsa, 27, korp. 5, liter A St.Petersburg, 194156 (RU) (For All Designated States Except US).
ALEXEEV, Alexei Nikolaevich [RU/RU]; (RU) (For US Only).
BARANOV, Dmitry Arkadievich [RU/RU]; (RU) (For US Only).
SHKURKO, Alexei Petrovich [RU/RU]; (RU) (For US Only).
POGORELSKY, Yury Vasilievich [RU/RU]; (RU) (For US Only)
Inventors: ALEXEEV, Alexei Nikolaevich; (RU).
BARANOV, Dmitry Arkadievich; (RU).
SHKURKO, Alexei Petrovich; (RU).
POGORELSKY, Yury Vasilievich; (RU)
Agent: SANDIGURSKY, Oleg Lvovich; a/ya 146 St.Petersburg, 192007 (RU)
Priority Data:
2008135877 02.09.2008 RU
Title (EN) SUBSTRATE CARRIER FOR MOLECULAR-BEAM EPITAXY
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT POUR ÉPITAXIE PAR JETS MOLÉCULAIRES
(RU) ДЕРЖАТЕЛЬ ПОДЛОЖКИ ДЛЯ МОЛЕКУЛЯРНО-ПУЧКОВОЙ ЭПИТАКСИИ
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to the production semiconductor devices and can be used for growing a thin film by a molecular-beam epitaxy method. The inventive substrate (1) carrier for molecular-beam epitaxy comprises a holder (2), a locking ring (3) and means which is used for heat insulating the carrier from the holder (2) and the locking ring (3) and which is designed in the form of two boron nitride rings (4, 5), wherein the substrate (1) is secured between the rings (4, 5), the holder (2) is designed in the form of a flat disc and contains at least one additional substrate (6) which is accommodated therein with a locking ring (8) and means for heat insulating the additional substrate from the holder and the locking ring, which means is designed in the form of two boron nitride rings, between which the additional substrate (6) is secured. The invention makes it possible to accommodate in the carrier two or more substrates, thereby enhancing the productivity of a molecular-beam epitaxy process without increasing the chamber overall dimensions.
(FR)L’invention concerne le domaine de la fabrication d’instruments semi-conducteurs et peut s’utiliser pour la formation de films minces par le procédé d’épitaxie par jets moléculaires. Dans le support de substrat (1) pour épitaxie par jets moléculaires comprenant un chargeur (2), la bague d’arrêt (3) et le moyen d’isolation du substrat du chargeur (2) et de la bague d’arrêt (3), qui se présente comme deux bagues (4, 5) en nitrure de bore, le substrat étant fixé entre ces deux bagues (4, 5), le chargeur (2) se présentant comme un disque plat et comporte au moins un substrat supplémentaire (6) avec une bague d’arrêt (8) et un moyen d’isolation thermique du substrat supplémentaire du chargeur et de la bague d’arrêt, qui se présente comme deux bagues en nitrure de bore, le substrat supplémentaire (6) étant placé entre les deux. L’invention permet d’assurer la mise en place dans le support de deux ou plusieurs substrats, ce qui augmente la productivité du processus d’épitaxie par jets moléculaires sans augmenter les dimensions de la chambre.
(RU)Полезная модель относится к области изготовления полупроводниковых приборов и может быть использована при выращивании тонких пленок методом молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ). В держателе подложки 1 для молекулярно- пучковой эпитаксии, включающем обойму 2, стопорное кольцо 3 и средство термоизоляции подложки от обоймы 2 и стопорного кольца 3, выполненное в виде двух колец 4, 5 из нитрида бора, при этом подложка 1 укреплена между этими кольцами 4, 5, обойма 2 выполнена в виде плоского диска, при этом в ней размещена, по меньшей мере, одна дополнительная подложка 6 со стопорным кольцом 8 и средством термоизоляции дополнительной подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненным в виде двух колец из нитрида бора, между которыми укреплена дополнительная подложка 6. Обеспечивается возможность размещения в держателе двух или более подложек и тем самым повышается производительность процесса МПЭ без увеличения габаритов камеры.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Russian (RU)
Filing Language: Russian (RU)