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Pub. No.:    WO/2010/027106    International Application No.:    PCT/JP2009/065969
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 07.09.2009
C07D 495/22 (2006.01), C07D 495/04 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 51/05 (2006.01), H01L 51/30 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (For All Designated States Except US).
MIYATA, Yasuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIKAWA, Eiji [JP/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MIYATA, Yasuo; (JP).
Agent: NAKAYAMA, Tohru; (JP)
Priority Data:
2008-229384 08.09.2008 JP
(JA) 新規化合物及び有機半導体材料
Abstract: front page image
(EN)A compound represented by formula (1). (In the formula, ring structure A and ring structure B each independently represents an optionally substituted aromatic ring or an optionally substituted heterocyclic ring; ring structure C represents an optionally substituted benzene ring, a hetero[3,2-b]heterole ring or an optionally substituted benzo[1,2-b:4,5-b']diheterole ring; W, X, Y and Z each independently represents a sulfur atom, an oxygen atom, a selenium atom, a tellurium atom, SO2, (R1)-C-(R2), (R3)-Si-(R4) or N-(R5), with at least one of W, X, Y and Z being N-(R5); and R1, R2, R3, R4 and R5 each independently represents a hydrogen atom, a substituent i, a substituent ii, an aryl group which may be substituted by a halogen or a heteroaryl group which may be substituted by a halogen.  The substituent i is a group selected from the group P described below, and the substituent ii is a group which is selected from the group P described below and substituted.  The group P consists of alkyl groups, alkoxy groups, alkyl-substituted aryl groups, alkoxy-substituted aryl groups and alkyl-substituted heteroaryl groups.)
(FR)L’invention concerne un composé représenté par la formule (1). (Dans la formule, la structure cyclique A et la structure cyclique B représentent chacune indépendamment un cycle aromatique éventuellement substitué ou un cycle hétérocyclique éventuellement substitué; la structure cyclique C représente un cycle benzène éventuellement substitué, un cycle hétéro[3,2-b]hétérole ou un cycle benzo[1,2-b:4,5-b’]dihétérole éventuellement substitué; W, X, Y et Z représentent chacun indépendamment un atome de soufre, un atome d’oxygène, un atome de sélénium, un atome de tellure, SO2, (R1)-C-(R2), (R3)-Si-(R4) ou N-(R5), W et/ou X et/ou Y et/ou Z représentant N-(R5); et R1, R2, R3, R4 et R5 représentent chacun indépendamment un atome d’hydrogène, un substituant i, un substituant ii, un groupe aryle qui peut être substitué par un halogène ou un groupe hétéroaryle qui peut être substitué par un halogène. Le substituant i est un groupe choisi dans le groupe P décrit ci-dessous, et le substituant ii est un groupe qui est choisi dans le groupe P décrit ci-dessous et substitué. Le groupe P est constitué des groupes alkyle, des groupes alcoxy, des groupes aryle à substitution alkyle, des groupes aryle à substitution alcoxy et des groupes hétéroaryle à substitution alkyle).
(JA)式(1) (式中、環構造A及び環構造Bは、独立して、置換されていてもよい芳香族環又は置換されていてもよい複素環を表し; 環構造Cは、置換されていてもよいベンゼン環、ヘテロ[3,2-b]ヘテロール環、又は置換されて いてもよいベンゾ[1,2-b:4,5-b']ジヘテロール環を表し、 W,X,Y及びZは、独立して、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、SO、(R)- C-(R)、(R)-Si-(R)、又はN-(R)を表し、W,X,Y及びZの少なくとも いずれか1つは、N-(R)であり、R、R、R、R及びRは、独立して、水素原子、置換基i、置換基ii、ハロゲンで置換さ れていてもよいアリール基、又はハロゲンで置換されていてもよいヘテロアリール基を表し、置換基i は下記群Pより選択される基であり、置換基iiは置換された下記群Pより選択される基であり、群P は、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アリール基、アルコキシ置換アリール基およびアルキル 置換ヘテロアリール基からなる。)で表される化合物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)