WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010027100) SYSTEM FOR ISOLATING AN EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/027100    International Application No.:    PCT/JP2009/065785
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 03.09.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), F16F 15/00 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (For All Designated States Except US).
HASHEMI Fardad A. [US/US]; (US) (For US Only).
WATSON Douglas C. [US/US]; (US) (For US Only).
MARGESON Christopher [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HASHEMI Fardad A.; (US).
WATSON Douglas C.; (US).
MARGESON Christopher; (US)
Agent: SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 100-6620 (JP)
Priority Data:
61/094,182  04.09.2008 US
61/098,009  18.09.2008 US
61/098,016  18.09.2008 US
61/098,029  18.09.2008 US
61/098,039  18.09.2008 US
61/098,047 18.09.2008 US
61/098,050 18.09.2008 US
61/098,057 18.09.2008 US
61/098,061 18.09.2008 US
61/234,734 18.08.2009 US
12/548,895 27.08.2009 US
Title (EN) SYSTEM FOR ISOLATING AN EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME D'ISOLATION D'APPAREIL D'EXPOSITION
Abstract: front page image
(EN)A precision assembly (10) for fabricating a substrate (42) includes a precision fabrication apparatus (12), a pedestal assembly (14) and a suspension system (16). The precision fabrication apparatus (12) fabricates the substrate (42). The pedestal assembly (14) supports at least a portion of the fabrication apparatus (12). The suspension system (16) inhibits the transfer of motion between the mounting base (20) and the pedestal assembly (14). The suspension system (16) can include (i) a first boom (380) that is coupled to the mounting base (20) and the pedestal assembly (14), the first boom (380) being pivotable coupled to at least one of the mounting base (20) and the pedestal assembly (14), and (ii) a first resilient assembly (382) that is coupled between the mounting base (20) and at least one of the first boom (380) and the pedestal assembly (14). The first resilient assembly (382) can function similar to a zero length spring over an operational range of the resilient assembly (382). With this design, the components of the precision fabrication apparatus (12) are better protected by the suspension system (16) during a seismic disturbance. This reduces the likelihood of damage and misalignment of the components of the precision fabrication apparatus (12) during the seismic disturbance.
(FR)L'invention concerne un ensemble de précision (10) pour la fabrication d'un substrat (42) qui comprend un appareil de fabrication de précision (12), un ensemble piédestal (14) et un système de suspension (16). L'appareil de fabrication de précision (12) permet de fabriquer le substrat (42). L'ensemble piédestal (14) soutient au moins une partie de l'appareil de fabrication (12). Le système de suspension (16) inhibe le transfert de mouvement entre la base de montage (20) et l'ensemble piédestal (14). Le système de suspension (16) peut comprendre (i) une première flèche (380) couplée à la base de montage (20) et à l'ensemble piédestal (14), cette flèche (380) pouvant pivoter en étant couplée soit à la base de montage (20) soit à l'ensemble piédestal (14), et(ii) un premier ensemble flexible (382) couplé entre la base de montage (20) et soit la première flèche (380) soit l'ensemble piédestal (14). Le premier ensemble flexible (382) peut fonctionner de façon analogue à un ressort de longueur nulle sur une gamme opérationnelle de l'ensemble flexible (382). Avec une telle conception, les éléments de l'appareil de fabrication de précision (12) sont mieux protégés par le système de suspension (16) durant une perturbation sismique. Cela réduit la probabilité de dégât causé aux éléments de l'appareil de fabrication de précision (12) et de défaut d'alignement de ces éléments durant une telle perturbation.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)