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1. (WO2010027036) MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/027036    International Application No.:    PCT/JP2009/065448
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 03.09.2009
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/65 (2006.01), G11B 5/82 (2006.01)
Applicants: WD Media (Singapore) Pte. Ltd. [SG/US]; c/o Western Digital Technologies, Inc., 20511 Lake Forest Drive Lake Forest, California 92630 (US) (For All Designated States Except US).
Aniya Masanori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SONOBE Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
Yasumori Junichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
Mitra Anupam [IN/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: Aniya Masanori; (JP).
SONOBE Yoshiaki; (JP).
Yasumori Junichi; (JP).
Mitra Anupam; (JP)
Agent: Takahashi, Hayashi and Partner Patent Attorneys, Inc.; Sonpo Japan Kamata Building 9F, 5-24-2 Kamata, Ota-ku, Tokyo 1440052 (JP)
Priority Data:
2008-226355 03.09.2008 JP
2008-253051 30.09.2008 JP
2008-253041 30.09.2008 JP
2009-010588 21.01.2009 JP
2009-087758 31.03.2009 JP
Title (EN) MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE
(JA) 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体
Abstract: front page image
(EN)The specific permeability of a non-recording portion for separating magnetically a magnetic recording portion in a magnetic recording layer can be optimized to improve the writing characteristics and the reading characteristics of the magnetic recording portion.  Provided is a method for manufacturing a magnetic recording medium (100).  This manufacturing method comprises a magnetic recording layer filming step of filming a magnetic recording layer (122) on a disk substrate (110), a resist layer filming step of filming a resist layer (130) on the magnetic recording layer (122), a patterning step of forming a predetermined pattern having recesses and protrusions by treating the resist layer (130) thereby to vary the thickness of the resist layer (130) partially, and an ion implanting step of implanting ions into the magnetic recording layer (122) while interposing the resist layer (130).  The manufacturing method is characterized in that a region (a non-recording portion (134)) under the recesses of the magnetic recording medium after the ion implanting step has a specific permeability of 2 to 100.
(FR)Selon l'invention, la perméabilité intrinsèque d'une partie de non-enregistrement servant à séparer magnétiquement une partie d'enregistrement magnétique dans une couche d'enregistrement magnétique peut être optimisée pour améliorer les caractéristiques d'inscription et de lecture de la partie d'enregistrement magnétique. La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique (100). Ce procédé comprend : une étape de pelliculage d'une couche d'enregistrement magnétique (122) sur un substrat de disque (110); une étape de pelliculage d'une couche de réserve (130) sur la couche d'enregistrement magnétique (122); une étape de formation d'un motif prédéterminé comprenant des renfoncements et des saillies, par traitement de la couche de réserve (130) pour faire varier partiellement l'épaisseur de ladite couche (130); ainsi qu'une étape d'implantation d'ions dans la couche d'enregistrement magnétique (122), accompagnée de l'interposition de la couche de réserve (130). Le procédé de fabrication selon l'invention se caractérise en ce qu'une zone (partie de non-enregistrement (134)) située sous les renfoncements du support d'enregistrement magnétique après l'étape d'implantation ionique présente une perméabilité intrinsèque comprise entre 2 et 100.
(JA)【課題】磁気記録層における磁性記録部を磁気的に分離する非記録部の比透磁率を最適化することで、磁性記録部への書き込み特性および読み出し特性を向上させることが可能とする。 【解決手段】本発明にかかる磁気記録媒体100の製造方法は、ディスク基体110上に、磁気記録層122を成膜する磁気記録層成膜工程と、磁気記録層122の上にレジスト層130を成膜するレジスト層成膜工程と、レジスト層130を加工することで当該レジスト層130の厚みを部分的に変化させ凹部と凸部を有する所定のパターンを形成するパターニング工程と、レジスト層130を介在させた状態で磁気記録層122にイオンを注入するイオン注入工程と、を含み、イオン注入工程を遂行した後における磁気記録媒体の凹部の下の領域(非記録部134)の比透磁率は2~100であることを特徴としている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)