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1. (WO2010026944) POLYMER FILM AND LAMINATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/026944    International Application No.:    PCT/JP2009/065186
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 31.08.2009
IPC:
B32B 27/06 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), C08F 2/00 (2006.01), C08F 8/00 (2006.01), C08F 299/00 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWAMURA Kouichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUJITA Mitsuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOKOI Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWAMURA Kouichi; (JP).
FUJITA Mitsuhiro; (JP).
YOKOI Kazuhiro; (JP)
Agent: WATANABE Mochitoshi; (JP)
Priority Data:
2008-227380 04.09.2008 JP
Title (EN) POLYMER FILM AND LAMINATE
(FR) FILM POLYMÈRE ET LAMINÉ
(JA) 高分子膜および積層体
Abstract: front page image
(EN)A polymer film that has a fine structural pattern and excellent manufacturing suitability, durability and adhesion to substrates, a laminate that has the polymer film, and a method to manufacture the polymer film and the laminate. The polymer film is a polymer film that is directly bonded to a surface of a substrate and is obtained using a method that comprises a film formation step in which two or more kinds of polymers, each containing at least one kind of polymer having a radical-polymerizable group, are brought into contact with the surface of a substrate that can generate radicals with exposure to light in order to form a polymer film having a phase-separated structure on the aforementioned substrate surface, an affixing step in which the polymer film obtained in the aforementioned film formation step is exposed to light in order to affix the aforementioned polymer film to the aforementioned substrate, and a cleaning step in which the polymer film obtained in the aforementioned affixing step is cleaned using a solvent.
(FR)Film polymère possédant un motif structurel fin, remarquable en termes de facilité de fabrication, de longévité et de pouvoir d’adhérence sur des substrats, laminé comportant ledit film polymère et procédé de fabrication du film polymère et du laminé. Le film polymère est collé directement sur une surface de substrat et s’obtient par un procédé englobant les opérations suivantes : opération de formation d’un film au cours de laquelle deux types de polymères ou plus contenant chacun au moins un type de polymère possédant un groupe à radical polymérisable sont mis en contact avec la surface d’un substrat capable de générer des radicaux par exposition à la lumière pour former un film polymère à structure à phase séparée sur la surface dudit substrat ; opération de fixation dans laquelle le film polymère obtenu à l’opération précédente est exposé à la lumière pour se fixer sur le substrat susmentionné ; et opération de nettoyage au cours de laquelle le film polymère obtenu à l’opération de fixation précédente est nettoyé au moyen d’un solvant.
(JA) 本発明は、製造適性、耐久性、基板との密着性に優れた微細な構造パターンを有する高分子膜、この高分子膜を有する積層体、および高分子膜および積層体の製造方法を提供することを課題とする。本発明の高分子膜は、ラジカル重合性基を有する高分子を少なくとも1種含む、2種以上の高分子を、露光によりラジカルを発生しうる基板表面上に接触させて、前記基板表面上に相分離構造を有する高分子膜を形成する膜形成工程と、前記膜形成工程で形成された前記高分子膜を露光し、前記高分子膜を前記基板に固定化する固定化工程と、前記固定化工程で得られた高分子膜を溶媒で洗浄する洗浄工程と、を含む方法により得られる、前記基板表面と直接結合した高分子膜である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)