WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010026708) METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING EXHAUST GAS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/026708    International Application No.:    PCT/JP2009/004023
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 21.08.2009
IPC:
B01D 53/68 (2006.01), B01D 53/46 (2006.01), B01D 53/77 (2006.01), F23G 7/06 (2006.01), F23J 15/02 (2006.01)
Applicants: TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION [JP/JP]; 3-26, Koyama 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1428558 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWABATA, Hirofumi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWABATA, Hirofumi; (JP)
Agent: SHIGA, Masatake; (JP)
Priority Data:
2008-230093 08.09.2008 JP
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING EXHAUST GAS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR TRAITER UN GAZ D'ÉCHAPPEMENT
(JA) 排ガス処理方法および処理装置
Abstract: front page image
(EN)An exhaust gas processing method is a method of processing exhaust gas from a semiconductor manufacturing device by introducing the gas into a combustion type harm removing device, sending the gas to a dust collecting device, and then sending the gas to a gas cleaning device of a two-stage structure.  The gas cleaning device of a two-stage structure is constructed from a first stage gas cleaning device and a second stage gas cleaning device.  The first stage gas cleaning device performs gas cleaning by using water as a cleaning liquid, and then the second stage gas cleaning device performs gas cleaning by using an alkaline aqueous solution as a cleaning liquid.
(FR)Procédé de traitement d'un gaz d'échappement qui consiste en un procédé pour traiter un gaz d'échappement en provenance d'un dispositif de fabrication de semi-conducteurs en introduisant le gaz dans un dispositif d'élimination de polluants du type de combustion, envoyer le gaz vers un dispositif de collecte de poussière, et ensuite envoyer le gaz vers un dispositif d'épuration de gaz d'une structure à deux étages.  Le dispositif d'épuration de gaz d'une structure à deux étages est constitué d'un dispositif d'épuration de gaz de premier étage et d'un dispositif d'épuration de gaz de deuxième étage. Le dispositif d'épuration de gaz de premier étage exécute une épuration du gaz en utilisant de l'eau comme liquide d'épuration, et ensuite le dispositif d'épuration de gaz de deuxième étage exécute une épuration du gaz en utilisant une solution aqueuse alcaline comme liquide d'épuration.
(JA)本発明の排ガス処理方法は、半導体製造装置からの排ガスを燃焼式除害装置に導入し、ついで集塵装置に送り、さらに2段構成のガス洗浄装置に送り込んで処理する方法であって、前記2段構成のガス洗浄装置は、第1段ガス洗浄装置と第2段ガス洗浄装置とから構成され、第1段ガス洗浄装置で水を洗浄液としてガス洗浄し、ついで、第2段ガス洗浄装置でアルカリ水溶液を洗浄液としてガス洗浄する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)