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1. (WO2010026679) DISPLAY DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/026679    International Application No.:    PCT/JP2009/002579
Publication Date: 11.03.2010 International Filing Date: 08.06.2009
IPC:
G09F 9/30 (2006.01), G02F 1/1345 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
YAMADA, Shigeyuki; (For US Only).
FUSE, Daisuke; (For US Only)
Inventors: YAMADA, Shigeyuki; .
FUSE, Daisuke;
Agent: MAEDA, Hiroshi; (JP)
Priority Data:
2008-229884 08.09.2008 JP
Title (EN) DISPLAY DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) 表示装置及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a display device having an active matrix substrate, which comprises a glass substrate, a plurality of connecting terminals (41) formed on the surface of the glass substrate and arranged in parallel at an equal spacing from each other, and an inter-layer insulating film (38) for covering the plural connecting terminals.  The inter-layer insulating film has an end portion formed to expose the leading ends of the plural connecting terminals to the outside.  A notch (42) is formed in the region between the two adjoining connecting terminals of the end portion of the inter-layer insulating film.  The notch has a stepped portion (46), which is constituted of a first face (43) forming the bottom face thereof, second faces (44) formed at higher positions than that of the first face, and a slope (45) formed continuously from the first face to the second faces.  A pixel electrode material layer and a photosensitive resist layer are formed over the inter-layer insulating film, and the pixel electrodes are formed by a photo-etching method.  Then, the end portion of the inter-layer insulating film can be cleared of the residue of the pixel electrode material.
(FR)L'invention porte sur un dispositif d'affichage comportant un substrat de matrice active, qui comprend un substrat en verre, une pluralité de bornes de connexion (41) placées sur la surface du substrat en verre et disposées en parallèle avec un espacement égal les unes par rapport aux autres, et un film isolant inter-couches (38) destiné à recouvrir les différentes bornes de connexion. Le film isolant inter-couches comporte une partie d'extrémité constituée de façon à exposer à l'extérieur les extrémités antérieures des différentes bornes de connexion. Une encoche (42) est ménagée dans la région entre les deux bornes de connexion adjacentes de la partie d'extrémité du film isolant inter-couches. L'encoche comporte une partie étagée (46), qui est constituée par une première face (43) formant la face inférieure de celle-ci, des deuxièmes faces (44) formées en des positions plus élevées que celles de la première face, et une pente (45) établie de façon continue de la première face aux deuxièmes faces. Une couche de matériau d'électrode de pixel et une couche de réserve photosensible sont formées sur le film isolant entre couches, et les électrodes de pixel sont réalisées par un procédé de photogravure. Ensuite, la partie d'extrémité du film isolant entre couches peut être débarrassée du résidu du matériau d'électrode de pixel.
(JA) 表示装置のアクティブマトリクス基板は、ガラス基板と、当該ガラス基板の表面に形成され、互いに等間隔に並列配置された複数の接続端子(41)と、当該複数の接続端子を覆う層間絶縁膜(38)とを備える。当該層間絶縁膜の端部は、前記複数の接続端子の先端がそれぞれ剥き出しになるように形成される。前記層間絶縁膜の端部の隣り合う2つの接続端子の間の領域には、切り欠き(42)が形成される。当該切り欠きは、その底面を構成する第1の面(43)と、当該第1 の面より高い位置に設けられた第2の面(44)と、前記第1の面から前記第2の面に渡って連続して形成された斜面(45)とで構成された段差部(46)を備える。 層間絶縁膜の上に画素電極材料層及び感光性レジスト層を形成し、フォトエッチングによって画素電極を形成する際に、前記層間絶縁膜の端部に画素電極材料の残渣が生じないようにすることができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)