WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010025334) LOCALIZED SUBSTRATE GEOMETRY CHARACTERIZATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/025334    International Application No.:    PCT/US2009/055313
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 28.08.2009
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US) (For All Designated States Except US).
VEERARAGHAVAN, Sathish [IN/US]; (US) (For US Only).
SINHA, Jaydeep, K. [US/US]; (US) (For US Only).
FETTIG, Rabi [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: VEERARAGHAVAN, Sathish; (US).
SINHA, Jaydeep, K.; (US).
FETTIG, Rabi; (US)
Agent: BARNES, Rick; (US)
Priority Data:
61/092,720 28.08.2008 US
Title (EN) LOCALIZED SUBSTRATE GEOMETRY CHARACTERIZATION
(FR) CARACTÉRISATION LOCALISÉE DE LA GÉOMÉTRIE D’UN SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)A system for evaluating the metrological characteristics of a surface of a substrate, the system including an optical substrate measurement system, a data analyzing system for analyzing data in an evaluation area on the substrate, applying feature-specific filters to characterize the surface of the substrate, and produce surface-specific metrics for characterizing and quantifying a feature of interest, the surface-specific metrics including a range metric for quantifying maximum and minimum deviations in the evaluation area, a deviation metric for quantifying a point deviation having a largest magnitude in a set of point deviations, where the point deviations are an amount of deviation from a reference plane fit to the evaluation area, and a root mean square metric calculated from power spectral density.
(FR)L’invention concerne un système permettant d’évaluer les caractéristiques métrologiques d’une surface d’un substrat, le système comprenant un système de mesure optique du substrat, un système d’analyse de données pour analyser les données dans une zone d’évaluation sur le substrat, l’application de filtres spécifiques aux caractéristiques pour caractériser la surface du substrat, et produire des mesures spécifiques de surface aux fins de caractériser et de quantifier une caractéristique d’intérêt, lesdites mesures spécifiques de surface comprenant une mesure d’étendue permettant de quantifier les écarts maximum et minimum dans la zone d’évaluation, une mesure d’écart permettant de quantifier un écart de point possédant la valeur la plus importante au sein d’un ensemble d’écarts de point, les écarts de point correspondant à une quantité d’écart par rapport à un plan de référence adapté à la zone d’évaluation, et une mesure quadratique moyenne (RMS) calculée à partir de la densité de spectre de puissance.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)