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1. (WO2010025005) BULK IMAGE MODELING FOR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/025005    International Application No.:    PCT/US2009/052361
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 31.07.2009
IPC:
G06F 19/00 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: SYNOPSYS, INC. [GB/US]; 700 E. Middlefield Road Mountian View CA 94043 (GB) (For All Designated States Except US).
FAN, Yongfa [CN/US]; (US) (For US Only).
ZHANG, Qiaolin [CN/US]; (US) (For US Only).
FALCH, Bradley, John [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: FAN, Yongfa; (US).
ZHANG, Qiaolin; (US).
FALCH, Bradley, John; (US)
Agent: WOLFELD, Warren; (US)
Priority Data:
12/200,523 28.08.2008 US
Title (EN) BULK IMAGE MODELING FOR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION
(FR) MODÉLISATION D'IMAGE DE SUBSTRAT POUR UNE CORRECTION DE PROXIMITÉ OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method is described herein for predicting lateral position information about a feature represented in an integrated circuit layout for use with an integrated circuit fabrication process, where the process projects an image onto a resist. The method includes providing a lateral distribution of intensity values of the image at different depths with the resist. Next, the lateral position of an edge point of the feature is predicted in dependence upon a particular resist development time, and further in dependence upon the image intensity values at more than one depth within the resist.
(FR)L'invention concerne un procédé pour prédire les informations de position latérale concernant un élément représenté dans un circuit intégré utilisé dans un procédé de fabrication de circuit intégré, le procédé projetant une image sur une réserve. Le procédé comprend la fourniture d'une distribution latérale de valeurs d'intensité de l'image à différentes profondeurs avec la réserve. Ensuite, la position latérale d'un point de bordure de l'élément est prédite selon une durée de développement d'une réserve particulière, et également selon les valeurs d'intensité de l'image à plus d'une profondeur dans la réserve.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)