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1. (WO2010024448) HYDROPHOBIC GROUP-CONTAINING COPOLYMER AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/024448    International Application No.:    PCT/JP2009/065266
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 01.09.2009
IPC:
C08F 220/06 (2006.01)
Applicants: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Koraibashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410043 (JP) (For All Designated States Except US).
YONEDA, Atsuro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HEMMI, Akiko [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YONEDA, Atsuro; (JP).
HEMMI, Akiko; (JP)
Agent: YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome Yodogawa-ku, Osaka-shi Osaka 5320003 (JP)
Priority Data:
2008-223172 01.09.2008 JP
2008-223234 01.09.2008 JP
2008-223260 01.09.2008 JP
Title (EN) HYDROPHOBIC GROUP-CONTAINING COPOLYMER AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COPOLYMÈRE CONTENANT UN GROUPE HYDROPHOBE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 疎水基含有共重合体及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A polymer (and a polymer composition) which can sufficiently suppress deposition of a surfactant and is especially useful for applications as detergents.  A method for efficiently producing the polymer.  Specifically disclosed is a hydrophobic group-containing copolymer containing a structural unit (a) derived from an ether bond-containing monomer (A) represented by general formula (1) and/or (2), and a structural unit (b) derived from a carboxyl group-containing monomer (B), wherein the structural unit (a) is 1-50% by mass and the structural unit (b) is 50-99% by mass, respectively, relative to 100% by mass of all the structural units derived from monomers.
(FR)L’invention concerne un polymère (et une composition polymère) qui peut supprimer de manière suffisante le dépôt d’un tensioactif et qui est particulièrement utile pour des applications en tant que détergent. L’invention concerne également un procédé efficace de fabrication du polymère. L’invention concerne spécifiquement un copolymère contenant un groupe hydrophobe, qui contient une unité structurale (a) dérivée d’un monomère contenant une liaison éther (A) représentée par la formule générale (1) et/ou (2), et une unité structurale (b) dérivée d’un monomère contenant un groupe carbonyle (B). Selon l’invention, l’unité structurale (a) représente 1 à 50 % en masse et l’unité structurale (b) 50 à 99 % en masse, respectivement, par rapport à 100 % en masse de toutes les unités structurales dérivées de monomères.
(JA)界面活性剤の析出を充分に抑制でき、特に洗剤用途に有用な重合体(及び重合体組成物)、並びに、該重合体を効率よく製造できる製造方法を提供する。下記一般式(1)及び/又は(2): で表されるエーテル結合含有単量体(A)由来の構造単位(a)と、カルボキシル基含有単量体(B)由来の構造単位(b)とを含み、全ての単量体由来の構造単位100質量%に対し、構造単位(a)が1~50質量%、構造単位(b)が50~99質量%である疎水基含有共重合体。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)