WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010024106) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/024106    International Application No.:    PCT/JP2009/063992
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 07.08.2009
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
TANITSU, Osamu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TANITSU, Osamu; (JP)
Agent: YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg. 10, Kanda-tsukasacho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Priority Data:
61/136,338 28.08.2008 US
Title (EN) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE, ORGANE D'ALIGNEMENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)A pupil intensity distribution at each point on a surface to be irradiated is regulated substantially uniformly. An illumination optical system, for illuminating surfaces (M; W) to be irradiated based on light from a light source (1), comprises optical systems (3, 4, 5) for forming a pupil intensity distribution on the illumination pupil of the illumination optical system, and a correction section (12) which is arranged at the position of an illumination pupil or the nearby position thereof, or a position optically conjugate to the illumination pupil or the nearby position thereof in order to correct the pupil intensity distribution, and which changes the exit direction of light according to the incident position of the light.
(FR)Une répartition d'intensité de pupille en chaque point sur une surface devant être exposée est régulée de façon sensiblement uniforme. Un système optique d'éclairage permettant d'éclairer des surfaces (M; W) devant être exposées sur la base d'une lumière provenant d'une source de lumière (1) comprend des systèmes optiques (3, 4, 5) permettant de former une répartition d'intensité de pupille sur la pupille d'éclairage du système optique d'éclairage, et une section correction (12) qui est disposée à la position d'une pupille d'éclairage ou de la position à proximité immédiate de celle-ci, ou en une position optiquement conjuguée à la pupille d'éclairage ou à la position à proximité immédiate de celle-ci dans le but de corriger la répartition d'intensité de pupille, et qui change la direction de sortie de la lumière en fonction de la position incidente de la lumière.
(JA) 被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれほぼ均一に調整する。光源(1)からの光に基づいて被照射面(M;W)を照明する照明光学系は、照明光学系の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系(3,4,5)と、瞳強度分布を補正するために、照明瞳の位置またはその近傍の位置、あるいは照明瞳と光学的に共役な位置またはその近傍の位置に配置されて、光の入射位置に応じて当該光の射出方向を変化させる補正部(12)とを備えている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)