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1. (WO2010023952) MAGNETRON SPUTTER CATHODE, AND FILMING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023952    International Application No.:    PCT/JP2009/004240
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 28.08.2009
IPC:
C23C 14/35 (2006.01), H01L 21/203 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01)
Applicants: ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHASHI, Hirohisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMADA, Shinya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISHIBASHI, Satoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKUMA, Kouhei [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAHASHI, Hirohisa; (JP).
YAMADA, Shinya; (JP).
ISHIBASHI, Satoru; (JP).
SAKUMA, Kouhei; (JP)
Agent: SHIGA, Masatake; (JP)
Priority Data:
2008-222170 29.08.2008 JP
Title (EN) MAGNETRON SPUTTER CATHODE, AND FILMING APPARATUS
(FR) CATHODE DE PULVÉRISATION AU MAGNÉTRON ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) マグネトロンスパッタカソード及び成膜装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a magnetron sputter cathode comprising: a yoke (10); a magnetic circuit (20) including a center magnet (21), a peripheral magnet (22), auxiliary magnets (23, 23a, 23b and 25) and a parallel region (S); and a backing plate (30).  The center magnet (21), the peripheral magnet (22) and the auxiliary magnets (23, 23a, 23b and 25) are arranged so that the polarities of the individual tips (31, 32, 33a and 33b) of the center magnet (21), the peripheral magnet (22) and the auxiliary magnets (23, 23a, 23b and 25) may be different between the mutually adjacent magnets.  The magnetic field profile observed from above the backing plate (30) is set so that a magnetic flux density (B//) in a horizontal direction may take a positive value in a first region and a negative value in a second region across a position corresponding to the center magnet (21).
(FR)La présente invention porte sur une cathode de pulvérisation au magnétron qui comprend : une culasse (10) ; un circuit magnétique (20) comprenant un aimant central (21), un aimant périphérique (22), des aimants auxiliaires (23, 23a, 23b et 25) et une région parallèle (S) ; et une plaque de support (30). L'aimant central (21), l'aimant périphérique (22) et les aimants auxiliaires (23, 23a, 23b et 25) sont disposés de telle sorte que les polarités des pointes individuelles (31, 32, 33a et 33b) de l'aimant central (21), de l'aimant périphérique (22) et des aimants auxiliaires (23, 23a, 23b et 25) puissent être différentes entre les aimants mutuellement adjacents. Le profil de champ magnétique observé depuis le haut de la plaque de support (30) est défini de telle sorte qu'une densité de champ magnétique (B//) dans une direction horizontale puisse prendre une valeur positive dans une première région et une valeur négative dans une seconde région dans une position correspondant à l'aimant central (21).
(JA) このマグネトロンスパッタカソードは、ヨーク(10)と、中央磁石部(21),周縁磁石部(22),補助磁石部(23,23a,23b,25),及び平行領域(S)を有する磁気回路(20)と、バッキングプレート(30)とを含み、前記中央磁石部(21),前記周縁磁石部(22),及び前記補助磁石部(23,23a,23b,25)の各々の先端部(31,32,33a,33b)の極性が互いに隣接する磁石部の間で異なるように、前記中央磁石部(21),前記周縁磁石部(22),及び前記補助磁石部(23,23a,23b,25)が配置され、前記バッキングプレート(30)の上方から観測される磁場プロファイルは、水平方向の磁束密度(B//)が前記中央磁石部(21)に対応する位置を境界として第1領域において正の値、第2領域において負の値となるように設定されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)