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1. (WO2010023829) POLISHING HEAD AND POLISHING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023829    International Application No.:    PCT/JP2009/003796
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 07.08.2009
IPC:
B24B 37/005 (2012.01), B24B 37/30 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: Shin-Etsu Handotai Co.,Ltd. [JP/JP]; 6-2, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP) (For All Designated States Except US).
Fujikoshi Machinery Corp. [JP/JP]; 1650, Kiyono, Matsushiro-machi, Nagano-shi, Nagano 3811233 (JP) (For All Designated States Except US).
MASUMURA, Hisashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HASHIMOTO, Hiromasa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MORITA, Kouji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KISHIDA, Hiromi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ARAKAWA, Satoru [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MASUMURA, Hisashi; (JP).
HASHIMOTO, Hiromasa; (JP).
MORITA, Kouji; (JP).
KISHIDA, Hiromi; (JP).
ARAKAWA, Satoru; (JP)
Agent: YOSHIMIYA, Mikio; (JP)
Priority Data:
2008-222039 29.08.2008 JP
Title (EN) POLISHING HEAD AND POLISHING APPARATUS
(FR) TÊTE DE POLISSAGE ET APPAREIL DE POLISSAGE
(JA) 研磨ヘッド及び研磨装置
Abstract: front page image
(EN)A polishing head is provided with at least an annular rigid ring; a rubber film adhered uniformly on the rigid ring with a tensile force; an intermediate plate which is connected to the rigid ring and forms a space section with the rubber film and the rigid ring; an annular template concentrically arranged with the rigid ring at the periphery of a lower surface section of the rubber film; and a pressure adjusting mechanism which changes pressure in the space section.  A plurality of airtight spaces are formed by partitioning the space section by means of at least one annular wall which is concentric with the rigid ring.  The outer diameter of at least one inner airtight space among the airtight spaces partitioned by the annular wall is equivalent to the diameter of the planarity-guaranteed region of a work or more, and the pressure adjusting mechanism independently adjusts pressure in each airtight space.
(FR)Une tête de polissage est équipée d’au moins une bague rigide annulaire ; d’un film en caoutchouc adhérant de façon uniforme à la bague rigide par une force de traction ; d’une plaque intermédiaire qui est reliée à l’a bague rigide et forme une section espace avec le film en caoutchouc et la bague rigide ; d’un gabarit annulaire agencé de manière concentrique avec la bague rigide à la périphérie d’une section de surface inférieure du film en caoutchouc ; et d’un mécanisme de réglage de pression qui change la pression dans la section espace. Une pluralité d’espaces étanches à l’air sont formés grâce à la séparation de la section espace à l’aide d’au moins une paroi annulaire qui est concentrique avec la bague rigide. Le diamètre extérieur d’au moins un espace intérieur étanche à l’air parmi les espaces étanches à l’air séparés par la paroi annulaire est équivalent au diamètre de la région à planarité garantie d’un ouvrage ou plus, et le mécanisme de réglage de pression règle indépendamment la pression dans chaque espace étanche à l’air.
(JA) 本発明は、少なくとも、環状の剛性リングと、該剛性リングに均一に張力で接着されたラバー膜と、剛性リングに結合され、ラバー膜と剛性リングとともに空間部を形成する中板と、ラバー膜の下面部の周辺部に剛性リングと同心状に配設された環状のテンプレートと、空間部の圧力を変化させる圧力調整機構とを具備し、空間部が、剛性リングと同心の少なくとも1つの環状の壁により仕切られて、複数の密閉空間が形成され、前記環状の壁により仕切られた複数の密閉空間のうち内側の少なくとも1つの密閉空間の外径が、ワークの平坦保証領域径以上であるように形成され、圧力調整機構は、複数の密閉空間内の圧力をそれぞれ独立に調整するものであることを特徴とする研磨ヘッドである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)