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1. (WO2010023790) MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN-FORMING BODY AND ELECTROMAGNETIC BEAM PROCESSING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023790    International Application No.:    PCT/JP2009/002513
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 04.06.2009
IPC:
G02B 1/11 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/08 (2006.01), B23K 26/36 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 33/00 (2010.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
USAMI, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: USAMI, Yoshihisa; (JP)
Agent: OGAWA, Keisuke; (JP)
Priority Data:
2008-221901 29.08.2008 JP
Title (EN) MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN-FORMING BODY AND ELECTROMAGNETIC BEAM PROCESSING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN CORPS DE FORMATION DE MOTIFS ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE FAISCEAU ÉLECTROMAGNÉTIQUE
(JA) パターン形成体の製造方法および電磁ビーム加工装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a manufacturing method for a pattern-forming body that enables easy formation of a dot‑like pattern without deforming the shape of a recessed part. The method is for manufacturing a pattern-forming body formed by the arrangement of a dot‑like pattern. The manufacturing method has a preparation step for preparing a substrate having a photoresist layer that will change shape when heated by irradiation with an electromagnetic beam, and an exposure step wherein the photoresist layer is irradiated by scanning with a laser beam and a part of said photoresist layer is removed. In said exposure step, the time during which the laser beam is emitted is 10‑40% of the scanning time corresponding to the spacing in the scanning direction of multiple recessed parts (21) formed on said photoresist layer.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'un corps de formation de motifs qui permet une formation facile d'un motif de type point sans déformer la forme d'une partie évidée. Le procédé consiste à fabriquer un corps de formation de motifs formé par l'agencement d'un motif de type point. Le procédé de fabrication comprend une étape de préparation pour préparer un substrat ayant une couche de photorésine qui changera de forme suite au chauffage par rayonnement avec un faisceau électromagnétique, et une étape d'exposition dans laquelle la couche de photorésine est irradiée par balayage d'un faisceau laser et dans laquelle une partie de ladite couche de photorésine est enlevée. A ladite étape d'exposition, le temps pendant lequel le faisceau laser est émis, représente entre 10 et 40 % du temps de balayage correspondant à l'espacement dans la direction de balayage des multiples parties évidées (21) formées sur ladite couche de photorésine.
(JA) 凹部の形状を歪めることなく、点状のパターンを簡易に形成できるパターン形成体の製造方法を提供する。点状のパターンが配列して形成されたパターン形成体の製造方法である。この製造方法は、電磁ビームの照射により加熱されると形状変化を起こすフォトレジスト層を有する基板を準備する準備工程と、フォトレジスト層に対しレーザ光を走査させながら照射して前記フォトレジスト層の一部を除去する露光工程と、を有し、前記露光工程において、レーザ光を発光させる時間を、前記フォトレジスト層に形成される複数の凹部21の走査方向におけるピッチに対応する走査時間に対して10~40%とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)