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1. (WO2010023751) METHOD FOR ADJUSTING ELECTRON BEAM PLOTTING DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING CONTROL DEVICE FOR CONTROLLING ELECTRON BEAM PLOTTING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023751    International Application No.:    PCT/JP2008/065506
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 29.08.2008
IPC:
G11B 9/10 (2006.01)
Applicants: PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Shin-ogura, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2120031 (JP) (For All Designated States Except US).
SUZUKI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUSHIMA, Akio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KASUYA, Takayuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUGIURA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SUZUKI, Hiroaki; (JP).
FUKUSHIMA, Akio; (JP).
KASUYA, Takayuki; (JP).
SUGIURA, Satoshi; (JP)
Agent: FUJIMURA, Motohiko; FUJIMURA PATENT BUREAU Togeki-Bldg. 1-1, Tsukiji 4-chome Chuo-ku, Tokyo 1040045 (JP)
Priority Data:
Title (EN) METHOD FOR ADJUSTING ELECTRON BEAM PLOTTING DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING CONTROL DEVICE FOR CONTROLLING ELECTRON BEAM PLOTTING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ SERVANT À AJUSTER UN DISPOSITIF DE TRAÇAGE DE FAISCEAU ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ SERVANT À AJUSTER UN DISPOSITIF DE CONTRÔLE POUR CONTRÔLER LE DISPOSITIF DE TRAÇAGE DE FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
(JA) 電子ビーム描画装置の調整方法、及び電子ビーム描画装置を制御する制御装置の調整方法
Abstract: front page image
(EN)An electron beam plotting device to be adjusted is caused to plot a predetermined test pattern. According to an image expressing the plotted test pattern, correction data for correcting a control amount of a plotting control unit is generated in the electron beam plotting device. According to the correction data, the control amount of the plotting control unit is corrected in the electron beam plotting device.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traçage de faisceau électronique qui doit être ajusté et qui entraîne le traçage d'une séquence de tests prédéterminée. En fonction d'une image exprimant la séquence de tests tracée, des données de correction servant à corriger une quantité de contrôle d'une unité de contrôle de traçage sont générées dans le dispositif de traçage de faisceau électronique. En fonction des données de correction, la quantité de contrôle de l'unité de contrôle de traçage est corrigée dans le dispositif de traçage de faisceau électronique.
(JA) 【課題】 【解決手段】調整対象となる電子ビーム描画装置において所定のテストパターンを描画させ、この描画されたテストパターンを表す画像に基づいて上記電子ビーム描画装置における描画制御部の制御量を補正させるべき補正データを生成し、この補正データに基づき上記電子ビーム描画装置における描画制御部の制御量を補正する。 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)