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1. (WO2010023520) SYSTEM FOR LOADING PRESSES FOR CERAMIC PRODUCTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023520    International Application No.:    PCT/IB2009/006519
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 10.08.2009
IPC:
B28B 13/02 (2006.01)
Applicants: EMAR S.R.L. [IT/IT]; Viale G. F. Ferrari Moreni 8 I-41049 Sassuolo (MO) (IT) (For All Designated States Except US).
MARTINELLI, Paola [IT/IT]; (IT) (For US Only)
Inventors: MARTINELLI, Paola; (IT)
Agent: FARAGGIANA, Vittorio; Barzano' & Zanardo Milano S.p.A. Via Borgonuovo 10 I-20121 Milano (MI) (IT)
Priority Data:
MI2008A001564 01.09.2008 IT
Title (EN) SYSTEM FOR LOADING PRESSES FOR CERAMIC PRODUCTS
(FR) SYSTÈME DE CHARGE DE PRESSES POUR PRODUITS EN CÉRAMIQUE
Abstract: front page image
(EN)A system for loading and depositing layers of dusts into a press for ceramic products comprises a first device (13) for discharging dusts and a second device (14) for discharging dusts received from the first one. The first device (13) is external with respect to the press and the second device (14) slides horizontally moving between a loading position beneath the first device and a path for discharging into the press. The first and the second discharge devices each have a discharge mouth (21) which is fed through an opening (22) provided with a "guillotine" interception shutter (23) which is controlled to slide on a substantially vertical plane containing the opening (22).
(FR)L'invention porte sur un système de charge et de dépôt de couches de poussière dans une presse pour produits en céramique. Le système comprend un premier dispositif (13) destiné à décharger des poussières et un deuxième dispositif (14) destiné à décharger les poussières reçues du premier dispositif. Le premier dispositif (13) est extérieur à la presse; le deuxième dispositif (14) coulisse horizontalement, se déplaçant entre une position de chargement en dessous du premier dispositif et un trajet pour la décharge dans la presse. Le premier et deuxième dispositifs de décharge comportent chacun une embouchure de décharge (21) alimentée par une ouverture (22) comportant un obturateur d'interception « à guillotine » (23) commandé de façon à coulisser sur un plan sensiblement vertical contenant l'ouverture (22).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Italian (IT)