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1. (WO2010023442) USES OF ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE PATTERNS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023442    International Application No.:    PCT/GB2009/002071
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 25.08.2009
IPC:
G01D 5/26 (2006.01), G01D 11/00 (2006.01)
Applicants: THE UNIVERSITY COURT OF THE UNIVERSITY OF GLASGOW [GB/GB]; Gilbert Scott Building University Avenue Glasgow G12 8QQ (GB) (For All Designated States Except US).
WEAVER, Jonathan, Mark, Ralph [GB/GB]; (GB) (For US Only).
DOBSON, Phillip, Stephen [GB/GB]; (GB) (For US Only).
BURT, David, Paul [GB/GB]; (GB) (For US Only).
THOMS, Stephen [GB/GB]; (GB) (For US Only).
DOCHERTY, Kevin, Edward [GB/GB]; (GB) (For US Only).
ZHANG, Yuan [CN/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: WEAVER, Jonathan, Mark, Ralph; (GB).
DOBSON, Phillip, Stephen; (GB).
BURT, David, Paul; (GB).
THOMS, Stephen; (GB).
DOCHERTY, Kevin, Edward; (GB).
ZHANG, Yuan; (GB)
Agent: NAYLOR, Matthew; Mewburn Ellis LLP 33 Gutter Lane London EC2V 8AS (GB)
Priority Data:
0815514.5 26.08.2008 GB
0823707.5 31.12.2008 GB
Title (EN) USES OF ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE PATTERNS
(FR) UTILISATIONS DE MOTIFS D'INTERFÉRENCE ÉLECTROMAGNÉTIQUE
Abstract: front page image
(EN)Various uses of visible light interference patterns are provided. Suitable interference patterns are those formed by diffraction from patterns of apertures. Typical uses disclosed herein relate to spatial metrology, such as a translational and/or angular position determination system. Further uses include the analysis of properties of the light itself (such as the determination of the wavelength of the electromagnetic radiation). Still further uses include the analysis of one or more properties (e.g. refractive index) of the matter through which the light passes. Part of the interference pattern is captured at a pixellated detector, such as a CCD chip, and the captured pattern compared with a calculated pattern. Very precise measurements of the spacing between maxima is possible, thus allowing very precise measurements of position of the detector in the interference pattern.
(FR)L'invention concerne diverses utilisations de motifs d'interférence de lumière visible. Les motifs d'interférence appropriés sont ceux formés par diffraction de motifs d'ouvertures. Les utilisations types décrites dans le présent brevet concernent la métrologie spatiale, comme un système de détermination de position de translation et/ou de position angulaire. D'autres utilisations comprennent l'analyse des propriétés de la lumière elle-même (comme la détermination de la longueur d'onde du rayonnement électromagnétique). Des utilisations supplémentaires comprennent l'analyse d'une ou plusieurs propriétés (par ex. l'indice de réfraction) de la matière à travers laquelle passe la lumière. Une partie du motif d'interférence est capturée par un détecteur de pixels, comme une puce CCD, et le motif capturé est comparé au motif calculé. Il est possible d'effectuer des mesures très précises de la position du détecteur dans le motif d'interférence, ce qui permet des mesures très précises de la position du détecteur dans le motif d'interférence.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)