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1. (WO2010023308) SUBSTRATE FOR AN ELECTRONIC OR ELECTROMECHANICAL COMPONENT AND NANO-ELEMENTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023308    International Application No.:    PCT/EP2009/061203
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 31.08.2009
Chapter 2 Demand Filed:    24.06.2010    
IPC:
H01L 21/768 (2006.01), H01L 23/522 (2006.01), H01L 23/532 (2006.01), H01L 29/06 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25 rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
GOISLARD DE MONSABERT, Thomas [FR/FR]; (FR) (For US Only).
DEGUET, Chrystel [FR/FR]; (FR) (For US Only).
DIJON, Jean [FR/FR]; (FR) (For US Only).
KOSTRZEWA, Marek [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: GOISLARD DE MONSABERT, Thomas; (FR).
DEGUET, Chrystel; (FR).
DIJON, Jean; (FR).
KOSTRZEWA, Marek; (FR)
Agent: ILGART, Jean-Christophe; Brevalex 95, rue d'Amsterdam F-75378 Paris Cedex 8 (FR)
Priority Data:
08 55852 01.09.2008 FR
Title (EN) SUBSTRATE FOR AN ELECTRONIC OR ELECTROMECHANICAL COMPONENT AND NANO-ELEMENTS
(FR) SUBSTRAT POUR COMPOSANT ÉLECTRONIQUE OU ÉLECTROMÉCANIQUE ET NANOELEMENTS
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a substrate for carrying at least one electronic or electromechanical component (708) and one or more nano-elements that comprises a base carrier (301), a catalytic system (302), a barrier layer (303) and a layer (304) capable of receiving the electronic or electromechanical component and made of monocrystalline Si or Ge or a mixture of these materials. The catalytic system (302) bears on the base carrier (301) without contacting the layer (304) capable of receiving the electronic or electromechanical component, and the barrier layer (303) is sandwiched between the catalytic system (302) and the layer (304) capable of receiving the electronic or electromechanical component. The barrier layer (303) does not contact the base carrier (301).
(FR)II s'agit d'un substrat destiné à supporter au moins un composant électronique ou électromécanique (708) et un ou plusieurs nanoéléments, formé d'un support de base (301), d'un système catalytique (302), d'une couche barrière (303), et d'une couche apte à accueillir le composant électronique ou électromécanique (304) en Si monocristallin ou en Ge ou en un mélange de ces matériaux. Le système catalytique (302) repose sur le support de base (301) sans contact avec la couche apte à accueillir le composant électronique ou électromécanique (304) et la couche barrière (303) est placée en sandwich entre le système catalytique (302) et la couche apte à accueillir le composant électronique ou électromécanique (304). Cette couche barrière (303) est sans contact avec le support de base (301).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)