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1. (WO2010023227) IMPROVED NANOIMPRINT METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023227    International Application No.:    PCT/EP2009/061005
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 26.08.2009
IPC:
G03F 7/00 (2006.01)
Applicants: AMO GMBH [DE/DE]; Otto-Blumenthal-Str. 25 52074 Aachen (DE) (For All Designated States Except US).
KOO, Namil [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KIM, Jung Wuk [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MOORMANN, Christian [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: KOO, Namil; (DE).
KIM, Jung Wuk; (DE).
MOORMANN, Christian; (DE)
Agent: BAUER, Wulf; Bauer . Vorberg . Kayser Goltsteinstr. 87 50968 Köln (DE)
Priority Data:
10 2008 041 623.1 27.08.2008 DE
Title (DE) VERBESSERTES NANOIMPRINT-VERFAHREN
(EN) IMPROVED NANOIMPRINT METHOD
(FR) PROCÉDÉ AMÉLIORÉ DE NANO-IMPRESSION
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Aufbringung einer strukturierten Beschichtung aus Resist (2a, 12a) auf eine Oberfläche eines Substrats (6, 16). Es umfasst wenigstens einen Prägeschritt, bei dem fließfähiges Resist (2, 12) jeweils zwischen einer strukturierten Oberfläche eines Stempels (1, 11) und einem Träger (3, 13) geprägt wird, um die Stempeloberfläche mit einer strukturierten Resistbeschichtung (2, 12) zu versehen, einen jeweils nachfolgenden Trennschritt, bei dem der Stempel mit einem ersten Teil (2a, 12a) der strukturierten Resistbeschichtung und der Träger mit einem zweiten Teil (2b, 12b) der Resistbeschichtung voneinander getrennt werden, einen nachfolgenden Transferschritt, bei dem der erste Teil (2a, 12a) der strukturierten Resistbeschichtung auf der Oberfläche des Stempels (1, 11) gegen die Oberfläche des Substrats (6, 16) gedrückt wird, um die strukturierte Resistbeschichtung (2a, 12a) auf die Oberfläche des Substrats (6, 16) zu übertragen, einen Härteschritt, bei dem der erste Teil (2a, 12a) der strukturierten Resistbeschichtung (2a, 12a) ausgehärtet wird sowie einen Entformungsschritt, bei dem der Stempel (1, 11) von dem ersten Teil (2a, 12a) der strukturierten Resistbeschichtung getrennt wird.
(EN)The invention relates to a method for applying a structured coating made of resist (2a, 12a) onto a surface of a substrate (6, 16). The method comprises at least one impression step in which flowable resist (2, 12) is stamped between a structured surface of a stamp (1, 11) and a support (3, 13) in order to provide the stamp surface with a structured resist coating (2, 12), a subsequent separating step, respectively, in which the stamp, comprising a first section (2a, 12a) of the structured resist coating and the support, comprising a second section (2b, 12b) of the resist coating, are separated from one another, a subsequent transfer step in which the first section (2a, 12a) of the structured resist coating on the surface of the stamp (1, 11) is pressed against the surface of the substrate (6, 16) in order to transfer the structured resist coating (2a, 12a) onto the surface of the substrate (6, 16), a curing step in which the first section (2a, 12a) of the structured resist coating (2a, 12a) is cured, and a demolding step in which the stamp (1, 11) is separated from the first section (2a, 12a) of the structured resist coating.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour appliquer un revêtement structuré constitué d'une résine (2a, 12a) sur une surface d'un substrat (6, 16). Il comprend au moins une étape d'estampage dans laquelle une résine fluide (2, 12) est estampée entre une surface structurée d'un tampon (1, 11) et un support (3, 13), pour pourvoir la surface du tampon d'un revêtement de résine structuré (2, 12), une étape de séparation faisant suite à l'étape ci-dessus, dans laquelle le tampon comportant une première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré et le support comportant une deuxième partie (2b, 12b) du revêtement de résine sont séparés l'un de l'autre, une étape ultérieure de transfert, dans laquelle la première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré se trouvant sur la surface du tampon (1, 11) est pressée contre la surface du substrat (6, 16) pour transférer le revêtement de résine structuré (2a, 12a) sur la surface du substrat (6, 16), une étape de durcissement, dans laquelle la première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré (2a, 12a) subit un durcissement complet, ainsi qu'une étape de démoulage, dans laquelle le tampon (1, 11) est séparé de la première partie (2a, 12a) du revêtement de résine structuré.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)