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1. (WO2010023217) USE OF POLYMERISABLE RESINS WITH LOW VACUUM DEGASSING FOR MAKING SPACE-GRADE COMPOSITE MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/023217    International Application No.:    PCT/EP2009/060969
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 26.08.2009
IPC:
C08J 5/24 (2006.01), C08L 63/08 (2006.01), C08L 91/00 (2006.01), B64G 1/22 (2006.01), C08L 83/06 (2006.01), C08L 63/02 (2006.01), C08L 63/04 (2006.01)
Applicants: ASTRIUM SAS [FR/FR]; 6 rue Laurent Pichat F-75016 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
UNIVERSITE DE REIMS [FR/FR]; 9 boulevard de la Paix F-51097 Reims Cedex (FR) (For All Designated States Except US).
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3 rue Michel Ange F-75016 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
DEFOORT, Brigitte [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MAHIAS, Roman [FR/FR]; (FR) (For US Only).
LACOUR, Dominique [FR/FR]; (FR) (For US Only).
COQUERET, Xavier [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MILLE, Marion [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: DEFOORT, Brigitte; (FR).
MAHIAS, Roman; (FR).
LACOUR, Dominique; (FR).
COQUERET, Xavier; (FR).
MILLE, Marion; (FR)
Agent: ILGART, Jean-Christophe; Brevalex 95, rue d'Amsterdam F-75378 Paris Cedex 8 (FR)
Priority Data:
08 55766 28.08.2008 FR
Title (EN) USE OF POLYMERISABLE RESINS WITH LOW VACUUM DEGASSING FOR MAKING SPACE-GRADE COMPOSITE MATERIALS
(FR) UTILISATION DE RESINES POLYMERISABLES, A FAIBLE DEGAZAGE SOUS VIDE, POUR LA FABRICATION DE MATERIAUX COMPOSITES A USAGE SPATIAL
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to the use of at least one polymerisable resin selected from the group comprising epoxidised polybutadiene resins, epoxidised polyisoprene resins, epoxidised polysiloxane resins, epoxidised triglyceride resins and epoxidised polyether resins having at the non-polymerised state: a total mass loss value lower than 10%, a relative mass loss value lower than 10%, and a condensable volatile-material value lower than 1% as determined according to standard ECSS-Q-70-02A; and an equivalent epoxidised weight of 100 to 600 g/mole. The resin is used for producing a space-grade material and more particularly a composite material having a Gossamer structure. The invention also relates to polymerisable resin compositions used for the production of space-grade composite materials, and to such composite materials.
(FR)La présente invention se rapporte à l'utilisation d'au moins une résine polymérisable choisie dans le groupe constitué par les résines de polybutadiène époxydé, les résines de polyisoprène époxydé, les résines de polysiloxane époxydé, les résines de triglycéride époxydé et les résines de polyéther époxydé qui présentent à l'état non polymérisé: - une valeur de perte de masse totale inférieure à 10%, une valeur de perte de masse relative inférieure à 10% et une valeur de matière volatile condensable inférieure à 1% telles que déterminées conformément à la norme ECSS-Q-70-02A; et - un poids équivalent d'époxydé de 100 à 600 g/mole; pour la fabrication d'un matériau composite à usage spatial, et plus spécifiquement, d'un matériau composite d'une structure Gossamer. Elle se rapporte également à des compositions de résines polymérisables, utiles pour la fabrication de matériaux composites à usage spatial, ainsi qu'à de tels matériaux composites.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)