WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010022814) STIFFENING LAYERS FOR THE RELAXATION OF STRAINED LAYERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/022814    International Application No.:    PCT/EP2009/004790
Publication Date: 04.03.2010 International Filing Date: 02.07.2009
IPC:
H01L 21/84 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01)
Applicants: S.O.I. TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES [FR/FR]; Chemin des Franques Parc Technologique des Fontaines F-38190 Bernin (FR) (For All Designated States Except US).
FAURE, Bruce [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: FAURE, Bruce; (FR)
Agent: BERTRAM, Rainer; Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät Leopoldstrasse 4 80802 München (DE)
Priority Data:
08290797.3 25.08.2008 EP
Title (EN) STIFFENING LAYERS FOR THE RELAXATION OF STRAINED LAYERS
(FR) COUCHES RIGIDIFIANTES POUR LE RELÂCHEMENT DE COUCHES CONTRAINTES
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a method for relaxing a strained material layer, comprising providing a strained material layer and a low-viscosity layer formed on a first face of the strained material layer; forming a stiffening layer on at least one part of a second face of the strained material layer opposite to the first face thereby forming a multilayer stack; and subjecting the multilayer stack to a heat treatment thereby at least partially relaxing the strained material layer.
(FR)La présente invention concerne un procédé de relâchement d’une couche de matériau contrainte, consistant à créer une couche de matériau contrainte et une couche à faible viscosité formée sur une première face de la couche de matériau contrainte ; à former une couche rigidifiante sur au moins une partie d’une seconde face de la couche de matériau contrainte opposée à la première face, formant ainsi un empilement multicouche ; et à soumettre l’empilement multicouche à un traitement thermique, relâchant ainsi partiellement la couche de matériau contrainte.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)