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1. (WO2009143254) THIN FILM BATTERIES AND METHODS FOR MANUFACTURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/143254    International Application No.:    PCT/US2009/044691
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 20.05.2009
IPC:
H01M 4/04 (2006.01), H01M 4/48 (2010.01), H01M 4/58 (2010.01), C23C 14/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: KWAK, Byung Sung; (US).
STOWELL, Michael; (US).
KRISHNA, Nety; (US)
Agent: DANIELSON, Mark, J.; (US)
Priority Data:
12/124,918 21.05.2008 US
Title (EN) THIN FILM BATTERIES AND METHODS FOR MANUFACTURING SAME
(FR) BATTERIES À COUCHES MINCES ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)A method of fabricating a layer of a thin film battery comprises providing a sputtering target and depositing the layer on a substrate using a physical vapor deposition process enhanced by a combination of plasma processes. The deposition process may include: (1) generation of a plasma between the target and the substrate; (2) sputtering the target; (3) supplying microwave energy to the plasma; and (4) applying radio frequency power to the substrate. A sputtering target for a thin film battery cathode layer has an average composition of LiMaNbZc, wherein 0.20 > (b/(a+b)} > 0 and the ratio of a to c is approximately equal to the stoichiometric ratio of a desired crystalline structure of the cathode layer, N is an alkaline earth element, M is selected from the group consisting of Co, Mn, Al, Ni and V, and Z is selected from the group consisting of (PO4), O, F and N.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'une couche d'une batterie à couches minces, qui consiste à prendre une cible de pulvérisation cathodique et à déposer la couche sur un substrat à l'aide d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur amélioré par une combinaison de procédés à plasma. Le procédé de dépôt peut comprendre : (1) la génération d'un plasma entre la cible et le substrat; (2) la pulvérisation cathodique de la cible; (3) la fourniture d'une énergie micro-ondes au plasma; et (4) l'application d'une puissance radiofréquence au substrat. Une cible de pulvérisation cathodique pour une couche de cathode de batterie à couches minces a une composition moyenne de LiMaNbZc, dans laquelle 0,20 > {b/(a + b)} > 0 et le rapport de a à c est approximativement égal au rapport stœchiométrique d'une structure cristalline désirée de la couche de cathode, N est un élément alcalino-terreux, M est choisi dans le groupe constitué par Co, Mn, Al, Ni et V, et Z est choisi dans le groupe constitué par (PO4), O, F et N.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)