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1. (WO2009142281) METHOD FOR CLEANING WITH FLUORINE COMPOUND
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/142281    International Application No.:    PCT/JP2009/059388
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 21.05.2009
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (For All Designated States Except US).
NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630431 (JP) (For All Designated States Except US).
OKAMOTO, Hidekazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAMATSU, Hideo [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OKAMOTO, Hidekazu; (JP).
NAMATSU, Hideo; (JP)
Agent: SENMYO, Kenji; (JP)
Priority Data:
2008-133944 22.05.2008 JP
2008-133953 22.05.2008 JP
Title (EN) METHOD FOR CLEANING WITH FLUORINE COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE AVEC UN COMPOSÉ DE FLUOR
(JA) フッ素化合物による洗浄方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for cleaning with a fluorine compound that can satisfactorily remove a plasma polymerization product from an object that is to be cleaned and includes a plasma polymerization product produced in a plasma etching step using a fluorine-containing gas. The method for cleaning comprises an immersion step of immersing an object (1) to be cleaned in a cleaning liquid (3) containing at least a fluorine compound (a fluorine solvent).  The method is characterized in that, in the immersion step, the temperature t of the cleaning liquid (3) is at or above a relatively lower temperature selected from a standard boiling point at 1 atm of the fluorine compound contained in the cleaning liquid (3) or 100°C, and the pressure of the atmosphere is a pressure that brings the fluorine compound to a liquid state at temperature t.  Also disclosed is a method for cleaning comprising an immersion step of immersing an object that is to be cleaned and includes a plasma polymerization product produced in a plasma etching step using a fluorine-containing gas, in a cleaning liquid containing a fluorine-containing compound.  The method is characterized in that the fluorine-containing compound contains a perfluoroalkyl group having a straight chain or branched structure having 5 or more carbon atoms.
(FR)La présente invention concerne un procédé de nettoyage avec un composé de fluor pouvant assurer une bonne élimination d’un produit de polymérisation plasma depuis un objet à nettoyer et comportant un produit de polymérisation plasma produit lors d’une étape de gravure plasma au moyen d’un gaz contenant du fluor. Le procédé de nettoyage comprend une étape d’immersion consistant à plonger un objet (1) à nettoyer dans un liquide de nettoyage (3) contenant au moins un composé de fluor (un solvant fluoré). Le procédé est caractérisé en ce que, lors de l’étape d’immersion, la température t du liquide de nettoyage (3) est égale ou supérieure à une température relativement inférieure choisie à partir d’un point d’ébullition standard à 1 atm du composé de fluor contenu dans le liquide de nettoyage (3) ou 100°C, et la pression de l’atmosphère est une pression qui transforme le composé de fluor vers un état liquide à la température t. L’invention concerne également un procédé de nettoyage comprenant une étape d’immersion d’un objet à nettoyer et comprenant un produit de polymérisation plasma produit lors d’une étape de gravure plasma au moyen de gaz contenant du fluor, dans un liquide de nettoyage contenant un composé contenant du fluor. Le procédé est caractérisé en ce que le composé contenant du fluor contient un groupe perfluoroalkyle ayant une chaîne linéaire ou une structure ramifiée ayant au moins 5 atomes de carbone.
(JA) フッ素含有ガスを用いたプラズマエッチング工程で発生するプラズマ重合物を有する被洗浄物を、良好に除去できる洗浄方法を提供する。  少なくともフッ素化合物を含有する洗浄液(フッ素系溶剤)3に、被洗浄物1を浸す浸漬工程を有する洗浄方法であって、浸漬工程における、洗浄液3の温度tが、洗浄液3に含まれるフッ素化合物の1気圧における標準沸点または100℃のいずれか低い方の温度以上であり、かつ雰囲気圧力が温度tにおいてフッ素化合物が液体状態となる圧力であることを特徴とする洗浄方法。また、フッ素含有ガスを用いたプラズマエッチング工程で発生するプラズマ重合物を有する被洗浄物を、含フッ素化合物を含有する洗浄液に浸す浸漬工程を有する洗浄方法であって、前記含フッ素化合物が、炭素数5以上の直鎖または分岐構造のパーフルオロアルキル基を有することを特徴とする洗浄方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)